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1. (WO2017130366) PATTERN MEASUREMENT DEVICE AND COMPUTER PROGRAM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2017/130366 International Application No.: PCT/JP2016/052561
Publication Date: 03.08.2017 International Filing Date: 29.01.2016
IPC:
G01B 15/00 (2006.01) ,H01J 37/22 (2006.01)
G PHYSICS
01
MEASURING; TESTING
B
MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
15
Measuring arrangements characterised by the use of wave or particle radiation
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02
Details
22
Optical or photographic arrangements associated with the tube
Applicants:
株式会社 日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
Inventors:
井上 修 INOUE Osamu; JP
Agent:
戸田 裕二 TODA Yuji; JP
Priority Data:
Title (EN) PATTERN MEASUREMENT DEVICE AND COMPUTER PROGRAM
(FR) DISPOSITIF DE MESURE DE MOTIFS ET PROGRAMME INFORMATIQUE
(JA) パターン計測装置及びコンピュータープログラム
Abstract:
(EN) The purpose of the present invention is to provide a pattern measurement device for performing evaluation of superposition of a region selection pattern and a selected pattern selected by the region selection pattern. The present invention proposes a pattern measurement device for determining superposition error. The pattern measurement device obtains, from signals obtained on the basis of a charged particle beam scan of a sample having an arrangement of plurality of patterns, a first measurement value of a first pattern positioned at one end of the plurality of patterns, and a second measurement value of a second pattern positioned at another end of the plurality of patterns, and determines at least one of the direction and the amount of displacement of displaced superposition of the first layer and the second layer on the basis of a comparison of the first measurement value and the second measurement value.
(FR) Le but de la présente invention est de fournir un dispositif de mesure de motifs pour effectuer une évaluation de superposition d'un motif de sélection de région et d'un motif sélectionné qui est sélectionné par le motif de sélection de région. La présente invention concerne un dispositif de mesure de motifs pour déterminer une erreur de superposition. Le dispositif de mesure de motifs obtient, à partir de signaux obtenus sur la base d'un balayage de faisceau de particules chargées d'un échantillon ayant un agencement d'une pluralité de motifs, une première valeur de mesure d'un premier motif positionné à une extrémité de la pluralité de motifs, et une seconde valeur de mesure d'un second motif positionné à l'autre extrémité de la pluralité de motifs, et détermine la direction et/ou la quantité de déplacement de la superposition déplacée de la première couche et de la seconde couche sur la base d'une comparaison de la première valeur de mesure et de la seconde valeur de mesure.
(JA) 本発明は、領域選択用パターンと、当該領域選択用パターンに選択される被選択パターンとの重ね合わせ評価を行うパターン計測装置の提供を目的とする。本発明は、重ね合わせ誤差を求めるパターン計測装置であって、複数のパターンが配列された試料に対する荷電粒子ビームの走査に基づいて得られた信号から、前記複数のパターンの一端に位置する第1のパターンの第1の測定値と、前記複数のパターンの他端に位置する第2のパターンの第2の測定値を求め、当該第1の測定値と第2の測定値の比較に基づいて、前記第1の層と第2の層との間の重ね合わせずれの方向、及びそのずれ量の少なくとも一方を求めるパターン計測装置を提案する。
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)