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1. (WO2017130346) EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2017/130346 International Application No.: PCT/JP2016/052469
Publication Date: 03.08.2017 International Filing Date: 28.01.2016
IPC:
H01L 21/027 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21
Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
02
Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
027
Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing, not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34165
Applicants:
ギガフォトン株式会社 GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 栃木県小山市大字横倉新田400番地 400,Oaza Yokokurashinden,Oyama-shi, Tochigi 3238558, JP
Inventors:
西村 祐一 NISHIMURA Yuichi; JP
薮 隆之 YABU Takayuki; JP
植野 能史 UENO Yoshifumi; JP
Agent:
柳田 征史 YANAGIDA Masashi; 神奈川県横浜市港北区新横浜3-18-3 新横浜KSビル 7階 柳田国際特許事務所 YANAGIDA & Associates, 7F, Shin-Yokohama KS Bldg., 3-18-3, Shin-Yokohama, Kohoku-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2220033, JP
Priority Data:
Title (EN) EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME
(JA) 極端紫外光生成装置
Abstract:
(EN) An extreme ultraviolet light generation device of the present invention is provided with: an EUV sensor that measures energy of extreme ultraviolet light generated when a target is irradiated with a plurality of laser beams in a predetermined region in a chamber; an irradiation position adjustment unit that adjusts at least one of the irradiation positions of the laser beams with which the target is to be irradiated in the predetermined region; an irradiation timing adjustment unit that adjusts at least one of the irradiation timings of the laser beams with which the target is to be irradiated in the predetermined region; and a control unit that controls the irradiation position adjustment unit and the irradiation timing adjustment unit. The control unit may control, on the basis of measurement results obtained from the EUV sensor, the irradiation timing adjustment unit after controlling the irradiation position adjustment unit.
(FR) Un dispositif de génération de lumière ultraviolette extrême selon la présente invention comprend: un capteur EUV qui mesure l'énergie d'une lumière ultraviolette extrême générée lorsqu'une cible est irradiée avec une pluralité de faisceaux laser dans une région prédéterminée dans une chambre; une unité d'ajustement de position d'irradiation qui règle au moins une des positions d'irradiation des faisceaux laser avec lesquels la cible doit être irradiée dans la région prédéterminée; une unité d'ajustement de synchronisation d'irradiation qui règle au moins une des synchronisations d'irradiation des faisceaux laser avec lesquels la cible doit être irradiée dans la région prédéterminée; et une unité de commande qui commande l'unité d'ajustement de position d'irradiation et l'unité d'ajustement de synchronisation d'irradiation. L'unité de commande peut commander, sur la base des résultats de mesure obtenus à partir du capteur EUV, l'unité d'ajustement de synchronisation d'irradiation après avoir commandé l'unité de réglage de position d'irradiation.
(JA) 極端紫外光生成装置は、チャンバ内の所定領域でターゲットに複数のレーザ光が照射されることによって生成された極端紫外光のエネルギを計測するEUVセンサと、前記所定領域において前記ターゲットに照射される前記複数のレーザ光のそれぞれの照射位置の少なくとも1つを調整する照射位置調整部と、前記所定領域において前記ターゲットに照射される前記複数のレーザ光のそれぞれの照射タイミングの少なくとも1つを調整する照射タイミング調整部と、前記照射位置調整部及び前記照射タイミング調整部を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記EUVセンサの計測結果に基づいて、前記照射位置調整部を制御した後に前記照射タイミング調整部を制御してもよい。
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)