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1. (WO2017110673) BIPRISM DEVICE AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
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Pub. No.: WO/2017/110673 International Application No.: PCT/JP2016/087541
Publication Date: 29.06.2017 International Filing Date: 16.12.2016
IPC:
H01J 37/295 (2006.01) ,H01J 37/26 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
26
Electron or ion microscopes; Electron- or ion-diffraction tubes
295
Electron- or ion-diffraction tubes
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
26
Electron or ion microscopes; Electron- or ion-diffraction tubes
Applicants:
国立研究開発法人理化学研究所 RIKEN [JP/JP]; 埼玉県和光市広沢2番1号 2-1 Hirosawa, Wako-shi, Saitama 3510198, JP
Inventors:
原田 研 HARADA Ken; JP
嶌田 惠子 SHIMADA Keiko; JP
新津 甲大 NIITSU Kodai; JP
Agent:
ポレール特許業務法人 POLAIRE I.P.C.; 東京都中央区日本橋茅場町二丁目13番11号 13-11, Nihonbashikayabacho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030025, JP
Priority Data:
2015-25102724.12.2015JP
Title (EN) BIPRISM DEVICE AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE BIPRISME ET DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) バイプリズム装置、及び荷電粒子線装置
Abstract:
(EN) In the present invention, when contaminants adhere, a localized charge-up is produced in a portion of the adhering contaminant, and the use of a biprism device is avoided. A rotary biprism device wherein a filament holder on which a filament electrode (91) is installed is configured to comprise two seat electrodes (83), (84) a protrusion (86) being provided on one of the seat electrodes (84). When said device is to be used as a biprism device, it is thereby possible to assume: a state in which a potential is applied to a filament electrode (91) via a contact electrode (81) connected to a power source (95); and a state in which, when the filament electrode is to be cleaned by electrical heating, the seat electrode (84) provided with the protrusion contacts a contact electrode (82) directly connected to the device, whereby a closed circuit including the filament electrode is formed, the filament electrode is heated by being energized, and adhering contaminants are removed.
(FR) Dans la présente invention, lorsque des contaminants adhèrent, une charge localisée est produite dans une partie du contaminant adhérent, et l'utilisation d'un dispositif de biprisme est évitée. Un dispositif de biprisme rotatif dans lequel un support de filament sur lequel une électrode de filament (91) est installée est configuré pour comprendre deux électrodes de siège (83), (84), une saillie (86) étant prévue sur l'une des électrodes de siège (84). Lorsque ledit dispositif doit être utilisé en tant que dispositif de biprisme, il est ainsi possible d'adopter : un état dans lequel un potentiel est appliqué à une électrode de filament (91) par l'intermédiaire d'une électrode de contact (81) connectée à une source d'alimentation (95) ; et un état dans lequel, lorsque l'électrode de filament doit être nettoyée par chauffage électrique, l'électrode de siège (84) munie de la saillie vient en contact avec une électrode de contact (82) directement connectée au dispositif, moyennant quoi un circuit fermé comprenant l'électrode de filament est formé, l'électrode de filament est chauffée en étant excitée, et des contaminants adhérents sont éliminés.
(JA) コンタミネーションが付着したとき、付着物の部分で局所チャージアップが発生して、バイプリズム装置の利用を妨げる。回転型バイプリズム装置において、フィラメント電極(91)を設置するフィラメントホルダーを2つの座電極(83)、(84)からなる構成とし、一方の座電極(84)に突起部(86)を備えることによって、バイプリズム装置として利用する際は、電源(95)に接続された接触電極(81)を介してフィラメント電極(91)に電位が印加される状態と、フィラメント電極を通電加熱により清浄化する際には、突起部を備えた座電極(84)が装置に直結した接触電極(82)に接触することによってフィラメント電極を含む閉回路が形成され、フィラメント電極が通電により加熱されて、付着したコンタミネーションが除去される状態を取ることを可能とする。
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)