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1. (WO2017110586) ELASTIC WAVE APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2017/110586 International Application No.: PCT/JP2016/087079
Publication Date: 29.06.2017 International Filing Date: 13.12.2016
IPC:
H03H 9/145 (2006.01)
H ELECTRICITY
03
BASIC ELECTRONIC CIRCUITRY
H
IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
9
Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
02
Details
125
Driving means, e.g. electrodes, coils
145
for networks using surface acoustic waves
Applicants:
株式会社村田製作所 MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 京都府長岡京市東神足1丁目10番1号 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555, JP
Inventors:
大門 克也 DAIMON, Katsuya; JP
玉崎 大輔 TAMASAKI, Daisuke; JP
Agent:
特許業務法人 宮▲崎▼・目次特許事務所 MIYAZAKI & METSUGI; 大阪府大阪市中央区常盤町1丁目3番8号 中央大通FNビル Chuo Odori FN Bldg., 3-8, Tokiwamachi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400028, JP
Priority Data:
2015-25365725.12.2015JP
Title (EN) ELASTIC WAVE APPARATUS
(FR) APPAREIL À ONDES ÉLASTIQUES
(JA) 弾性波装置
Abstract:
(EN) Provided is an elastic wave apparatus that is capable of reducing the effect of variation in film thickness in an intersection area of an IDT electrode and sufficiently suppressing horizontal-mode spurious emission. An elastic wave apparatus 1 is provided with: first mass-adding films 5a that are provided on a first dielectric film 4, that extend in the extending direction of multiple first and second electrode fingers 3a2 and 3b2 of an IDT electrode 3, and that are provided to a center area A1, so as to overlap with the multiple first and second electrode fingers 3a2 and 3b2 in a plan view; and second and third mass-adding films 5b and 5c that are provided on the first dielectric film 4, that are provided to first and second edge areas A2a and A2b, and that partially overlap with at least one of the first and second electrode fingers 3a2 and 3b2 in a plan view. The dimension of the second and third mass-adding films 5b and 5c in the elastic wave propagation d irection is larger than the dimension of the first mass-adding film 5a in the elastic wave propagation direction.
(FR) La présente invention concerne un appareil à ondes élastiques qui peut réduire l'effet de variations d'épaisseur d'un film dans une zone d'intersection d'une électrode IDT et supprimer suffisamment l'émission parasite en mode horizontal. L'appareil à ondes élastiques (1) comprend : des premiers films d'ajout de masse (5a) qui sont disposés sur un premier film diélectrique (4), qui s'étendent dans la direction d'extension de multiples premiers et seconds doigts d'électrode (3a2 et 3b2) d'une électrode IDT (3), et qui sont situés sur une zone centrale (A1), de manière à chevaucher les multiples premiers et seconds doigts d'électrode (3a2 et 3b2) en vue plane ; et des deuxièmes et troisièmes films d'ajout de masse (5b et 5c) qui sont disposés sur le premier film diélectrique (4), situés dans des première et seconde zones de bord (A2a et A2b), et qui chevauchent partiellement les premiers et/ou les seconds doigts d'électrode (3a2 et 3b2) en vue plane. La dimension des deuxièmes et troisièmes films d'ajout de masse (5b et 5c) dans la direction de propagation des ondes élastiques est plus grande que la dimension du premier film d'ajout de masse (5a) dans la direction de propagation des ondes élastiques.
(JA) IDT電極の交差領域における膜厚のばらつきの影響を小さくすることができ、横モードスプリアスを充分に抑制することができる、弾性波装置を提供する。 弾性波装置1は、平面視においてIDT電極3の複数本の第1及び第2の電極指3a2,3b2に重なるように、第1の誘電体膜4上に設けられており、各第1及び第2の電極指3a2,3b2が延びる方向に沿って延びており、かつ中央領域A1に設けられている、第1の質量付加膜5aと、第1の誘電体膜4上に設けられており、かつ第1及び第2のエッジ領域A2a,A2bに設けられており、平面視において第1及び第2の電極指3a2,3b2のうち少なくとも一方に一部が重なっている、第2及び第3の質量付加膜5b,5cとを備える。第1の質量付加膜5aの弾性波伝搬方向に沿う寸法よりも、第2及び第3の質量付加膜5b,5cの弾性波伝搬方向に沿う寸法の方が長い。
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)
Also published as:
JPWO2017110586CN108292913KR1020180075584US20180269852DE112016005980