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1. (WO2017110190) SELF-ASSEMBLING COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION USE, AND PATTERN FORMATION METHOD
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Pub. No.: WO/2017/110190 International Application No.: PCT/JP2016/078785
Publication Date: 29.06.2017 International Filing Date: 29.09.2016
IPC:
C08G 81/00 (2006.01)
C CHEMISTRY; METALLURGY
08
ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
G
MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
81
Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers in the absence of monomers, e.g. block polymers
Applicants:
王子ホールディングス株式会社 OJI HOLDINGS CORPORATION [JP/JP]; 東京都中央区銀座四丁目7番5号 7-5, Ginza 4-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040061, JP
Inventors:
森田 和代 MORITA Kazuyo; JP
Agent:
特許業務法人特許事務所サイクス SIKS & CO.; 東京都中央区京橋一丁目8番7号 京橋日殖ビル8階 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031, JP
Priority Data:
2015-25498625.12.2015JP
Title (EN) SELF-ASSEMBLING COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION USE, AND PATTERN FORMATION METHOD
(FR) COMPOSITION À AUTO-ASSEMBLAGE À UTILISER POUR LA FORMATION DE MOTIFS, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS
(JA) パターン形成用自己組織化組成物及びパターン形成方法
Abstract:
(EN) The present invention addresses the problem of providing a self-assembling composition for pattern formation use, whereby it becomes possible to form a good phase-separated structure even when it is intended to form a large-size pattern. The present invention also addresses the problem of providing a self-assembling composition for pattern formation use, whereby it becomes possible to form a pattern by a simple process without requiring the provision of an under layer upon the formation of a fine pattern structure. The present invention relates to a self-assembling composition for pattern formation use, said self-assembling composition being characterized by containing a block copolymer that contains a polymer segment a and a polymer segment b, wherein the polymer segment a contains at least two units of at least one type of unit selected from a glucose unit and a xylose unit and the polymer segment b contains at least two units of at least one type of unit selected from an aromatic-ring-containing unit, a silicon-containing unit and a metal-containing unit.
(FR) La présente invention aborde le problème consistant à fournir une composition à auto-assemblage destinée à être utilisée pour la formation de motifs, grâce à laquelle il devient possible de former une structure à phases bien séparées même si elle est destinée à former un motif de grande taille. La présente invention aborde également le problème consistant à fournir une composition à auto-assemblage destinée à être utilisée pour la formation de motifs, grâce à laquelle il devient possible de former un motif par un procédé simple sans nécessiter l'utilisation d'une sous-couche lors de la formation d'une structure à motifs fins. La présente invention concerne une composition à auto-assemblage destinée à être utilisée pour la formation de motifs, ladite composition à auto-assemblage étant caractérisée en ce qu'elle contient un copolymère séquencé qui contient un segment polymère a et un segment polymère b, ledit segment polymère a contenant au moins deux motifs d'au moins un type de motif choisi parmi un motif glucose et un motif xylose et ledit segment polymère b contenant au moins deux motifs d'au moins un type de motif choisi parmi un motif contenant un noyau aromatique, un motif contenant du silicium et un motif contenant un métal.
(JA) 本発明は、サイズの大きなパターンを形成する場合であっても、良好な相分離構造を形成し得るパターン形成用自己組織化組成物を提供することを課題とする。また、本発明は、微細パターン構造を形成する際には下地層等の必要がなく、簡便なプロセスでパターンを形成し得るパターン形成用自己組織化組成物を提供することを課題とする。本発明は、グルコース単位及びキシロース単位から選択される少なくとも1種を2単位以上含む重合部aと、芳香環含有単位、ケイ素含有単位及び金属含有単位から選択される少なくとも1種を2単位以上含む重合部bと、を含むブロックコポリマーを含有することを特徴とするパターン形成用自己組織化組成物に関する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)
Also published as:
KR1020180084880EP3395859US20180362692CN109071823