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1. (WO2017094770) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2017/094770 International Application No.: PCT/JP2016/085533
Publication Date: 08.06.2017 International Filing Date: 30.11.2016
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/68 (2006.01) ,H05K 3/00 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20
Exposure; Apparatus therefor
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21
Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67
Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components
68
for positioning, orientation or alignment
H ELECTRICITY
05
ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
K
PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
3
Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
Applicants:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Inventors:
鈴木智也 SUZUKI Tomonari; JP
宮地章 MIYACHI Akira; JP
木内徹 KIUCHI Tohru; JP
加藤正紀 KATO Masaki; JP
鬼頭義昭 KITO Yoshiaki; JP
Agent:
千葉剛宏 CHIBA Yoshihiro; JP
宮寺利幸 MIYADERA Toshiyuki; JP
千馬隆之 SENBA Takayuki; JP
大内秀治 OUCHI Hideharu; JP
仲宗根康晴 NAKASONE Yasuharu; JP
坂井志郎 SAKAI Shiro; JP
関口亨祐 SEKIGUCHI Kosuke; JP
Priority Data:
2015-23306930.11.2015JP
Title (EN) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING APPARATUS
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION, SYSTÈME D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET APPAREIL DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 露光装置、露光システム、基板処理方法、および、デバイス製造装置
Abstract:
(EN) An exposure apparatus (EX) for transporting a substrate (P) in the long direction and exposing a pattern for an electronic device on the substrate (P), wherein the exposure apparatus (EX) is provided with: an alignment microscope (ALG) for detecting mark position information for a plurality of marks formed on the substrate (P); a first pattern exposure part (EXH1) for adjusting the position of an energy beam corresponding to design information for a pattern on the basis of the mark position information, and projecting the energy beam in order to expose the pattern in an exposure region on the substrate (P); and a control device (14) for outputting the mark position information and/or adjustment information pertaining to the positional adjustment of the energy beam projected onto the exposure region, said information being outputted in order to produce a mask pattern corresponding to the pattern to be exposed in a device formation region. The exposure apparatus is also provided with a substrate support member having a support surface for allowing bending in the transportation direction and providing support, and a plurality of exposure units positioned along the transportation direction and configured so that the pattern is exposed on the substrate by mutually different exposure methods.
(FR) L'invention concerne un appareil d'exposition (EX) pour transporter un substrat (P) dans la direction longue et pour exposer un motif pour un dispositif électronique sur le substrat (P), l'appareil d'exposition (EX) étant pourvu : d'un microscope d'alignement (ALG) pour détecter des informations de position de repère pour une pluralité de repères formés sur le substrat (P) ; d'une première partie d'exposition de motif (EXH1) pour ajuster la position d'un faisceau d'énergie correspondant à des informations de conception pour un motif, sur la base des informations de position de repère, et pour projeter le faisceau d'énergie de façon à exposer le motif dans une région d'exposition sur le substrat (P) ; d'un dispositif de commande (14) pour sortir les informations de position de repère et/ou des informations d'ajustement concernant l'ajustement de position du faisceau d'énergie projeté sur la région d'exposition, lesdites informations étant sorties pour produire un motif de masque correspondant au motif à exposer dans une région de formation de dispositif. L'appareil d'exposition comprend également un élément de support de substrat ayant une surface de support pour permettre une flexion dans la direction de transport et pour fournir un support, et une pluralité d'unités d'exposition positionnées dans la direction de transport et configurées de telle sorte que le motif est exposé sur le substrat par des procédés d'exposition différents les uns des autres.
(JA) 基板(P)を長手方向に沿って搬送して、基板(P)上に電子デバイス用のパターンを露光する露光装置(EX)であって、基板(P)上に形成された複数のマークのマーク位置情報を検出するアライメント顕微鏡(ALG)と、基板(P)上の露光領域にパターンを露光するために、パターンの設計情報に対応したエネルギー線をマーク位置情報に基づいて位置調整して投射する第1のパターン露光部(EXH1)、露光領域に投射されるエネルギー線の位置調整に関する調整情報とマーク位置情報との少なくとも一方を、デバイス形成領域内に露光すべきパターンに対応したマスクパターンの作成のた めに出力する制御装置(14)とを備える。 また、露光装置は、前記搬送方向に湾曲させて支持する支持面を有する基板支持部材と、搬送方向に沿って配置され、互いに異なる露光方式で前記パターンを前記基板に露光するように構成された複数の露光部とを備える。
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)
Also published as:
KR1020180087385CN108604063IN201817023997