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1. (WO2017094613) METHOD FOR PRODUCING HALFTONE MASK, AND SYSTEM FOR PRODUCING HALFTONE MASK
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2017/094613 International Application No.: PCT/JP2016/084960
Publication Date: 08.06.2017 International Filing Date: 25.11.2016
IPC:
H04N 1/405 (2006.01) ,B41J 2/52 (2006.01)
H ELECTRICITY
04
ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
N
PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
1
Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
40
Picture signal circuits
405
Halftoning, i.e. converting the picture signal of a continuous-tone original into a corresponding signal showing only two levels
B PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
41
PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
J
TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
2
Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
52
Arrangement for printing a discrete number of tones, not covered by group B41J2/205102
Applicants:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventors:
勝山 公人 KATSUYAMA, Kimito; JP
Agent:
松浦 憲三 MATSUURA, Kenzo; JP
Priority Data:
2015-23498001.12.2015JP
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING HALFTONE MASK, AND SYSTEM FOR PRODUCING HALFTONE MASK
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE PRODUCTION DE MASQUE EN DEMI-TEINTE
(JA) ハーフトーンマスク製造方法及びハーフトーンマスク製造システム
Abstract:
(EN) The present invention provides a method for producing a halftone mask and a system for producing a halftone mask with which the continuity of a dot pattern between gradations is maintained and image quality is higher than when a conventional halftone mask is used. The method includes: adding or removing a number of dots that corresponds to a difference in gradation to or from the dot pattern of a gradation of which the dot pattern has already been determined, and thereby determining a provisional dot pattern in a gradation of which the dot pattern is to be determined (S20); executing a replacement process for replacing dots, among the dots of the provisional dot pattern, that include some of dots of the gradation of which the dot pattern has already been determined with dot non-placement (S22); and determining a dot pattern in the gradation of which the dot pattern is to be determined. A group of dot patterns for each gradation may be used as a halftone mask, or a halftone mask may be configured by setting a dot pattern for each gradation as a threshold value.
(FR) L'invention concerne un procédé et un système de production d'un masque en demi-teinte dans lequel la continuité d'un motif de points entre des gradations est préservée et dont la qualité d'image est supérieure à celle obtenue au moyen d'un masque en demi-teinte classique. Le procédé selon l'invention consiste : à ajouter ou retirer un nombre de points qui correspond à une différence de gradation en direction ou en provenance du motif de points d'une gradation dont le motif de points a déjà été déterminé, et à déterminer ainsi un motif de points provisoire dans une gradation dont le motif de points est à déterminer (S20); à exécuter un processus de remplacement pour remplacer des points, parmi les points du motif de points provisoire, qui comprennent certains des points de la gradation dont le motif de points a déjà été déterminée avec non-placement de points (S22); et à déterminer un motif de points dans la gradation dont le motif de points est à déterminer. Un groupe de motifs de points pour chaque gradation peut être utilisé comme masque en demi-teinte ou un masque en demi-teinte peut être configuré par définition d'un motif de points pour chaque gradation comme valeur seuil.
(JA) 階調間のドットパターンの連続性が保たれ、かつ、従来のハーフトーンマスクを用いた場合よりも画像品質が良好となる、ハーフトーンマスク製造方法及びハーフトーンマスク製造システムを提供する。ドットパターンが既に決定された階調のドットパターンに、階調差に対応する数のドットの追加、又は削除によりドットパターン決定対象階調における仮のドットパターンを決定し(S20)、仮のドットパターンのドットのうち、ドットパターン既決定階調のドットの一部を含むドットを、ドットの非配置と置き換える置換処理を実行し(S22)、ドットパターン決定対象階調におけるドットパターンを決定する。階調ごとのドットパターンの一群をハーフトーンマスクとしてもよいし、階調ごとのドットパターンを閾値として設定してハーフトーンマスクを構成してもよい。
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)
Also published as:
EP3386178