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1. (WO2017092995) OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM OR OF A WAFER INSPECTION SYSTEM
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Pub. No.: WO/2017/092995 International Application No.: PCT/EP2016/077210
Publication Date: 08.06.2017 International Filing Date: 10.11.2016
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 5/30 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20
Exposure; Apparatus therefor
G PHYSICS
02
OPTICS
B
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5
Optical elements other than lenses
30
Polarising elements
Applicants:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
CARL, Michael [DE/DE]; DE (US)
Inventors:
CARL, Michael; DE
Agent:
FRANK, Hartmut; DE
Priority Data:
10 2015 223 982.902.12.2015DE
Title (DE) OPTISCHES SYSTEM EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE ODER EINER WAFERINSPEKTIONSANLAGE
(EN) OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM OR OF A WAFER INSPECTION SYSTEM
(FR) SYSTÈME OPTIQUE D'UNE UNITÉ D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE OU D'UNE UNITÉ D'INSPECTION DE PLAQUETTES
Abstract:
(DE) Die Erfindung betrifft ein optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage oder einer Waferinspektionsanlage, wobei das optische System eine optische Systemachse (OA) aufweist, mit einem ersten Retardierungsmanipulator (1 10, 210, 310, 410, 510, 610, 710, 810), einem zweiten Retardierungsmanipulator (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820), und einem Manipulator zur Verschiebung des zweiten Retardierungsmanipulators (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820) unabhängig von dem ersten Retardierungsmanipulator (1 10, 210, 310, 410, 510, 610, 710, 810) in wenigstens einer zur optischen Systemachse (OA) transversalen Richtung, wobei der zweite Retardierungsmanipulator (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820) die Wellenfront von im Betrieb des optischen Systems hindurchtretendem Licht unverändert lässt, und wobei in einer vorgegebenen Ausgangsposition des ersten Retardierungsmanipulators und des zweiten Retardierungsmanipulators die Summe der von dem ersten Retardierungsmanipulator und dem zweiten Retardierungsmanipulator bewirkten Retardierungen für sämtliche im Betrieb des optischen Systems parallel zur optischen Systemachse (OA) verlaufenden Strahlen übereinstimmt.
(EN) The invention relates to an optical system of a microlithographic projection exposure system or of a wafer inspection system. The optical system has an optical system axis (OA) and comprises a first retardation manipulator (1 10, 210, 310, 410, 510, 610, 710, 810), a second retardation manipulator (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820), and a manipulator for displacing the second retardation manipulator (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820) independently of the first retardation manipulator (1 10, 210, 310, 410, 510, 610, 710, 810) in at least one direction which is transversal to the optical system axis (OA) The second retardation manipulator (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820) leaves the wave front of the light passing through during the operation of the optical system unchanged, and in a specified starting position of the first retardation manipulator and the second retardation manipulator, the sum of the retardation produced by the first retardation manipulator and by the second retardation manipulator is the same for all of the beams running parallel to the optical system axis (OA) during the operation of the optical system.
(FR) L'invention concerne un système optique d'une unité d'exposition par projection microlithographique ou d'une unité d'inspection de plaquettes. Le système optique possède un axe optique (OA) et comporte un premier retardateur (110, 210, 310, 410, 510, 610, 710, 810), un second retardateur (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820), et un manipulateur destiné déplacer le second retardateur (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820) indépendamment du premier retardateur (110, 210, 310, 410, 510, 610, 710, 810) dans au moins une direction transversale à l'axe optique OA du système. Le second retardateur (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820) laisse inchangée le front d'onde de la lumière traversante pendant le fonctionnement du système optique. De plus, dans une position de sortie prédéterminée du premier retardateur et du second retardateur, la somme des retards générés par le premier retardateur et le second retardateur concorde pour tous les faisceaux s'étendant parallèlement à l'axe optique (OA) du système pendant le fonctionnement du système optique.
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Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)