Search International and National Patent Collections
Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persists, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2017092815) OPTICAL IMAGING ARRANGEMENT WITH ACTIVELY ADJUSTABLE METROLOGY SUPPORT UNITS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2017/092815 International Application No.: PCT/EP2015/078548
Publication Date: 08.06.2017 International Filing Date: 03.12.2015
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20
Exposure; Apparatus therefor
Applicants:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Inventors:
HEMBACHER, Stefan; DE
GEUPPERT, Bernhard; DE
KUGLER, Jens; DE
Agent:
CARL ZEISS AG - PATENTABTEILUNG; Carl-Zeiss-Strasse 22 73447 Oberkochen, DE
Priority Data:
Title (EN) OPTICAL IMAGING ARRANGEMENT WITH ACTIVELY ADJUSTABLE METROLOGY SUPPORT UNITS
(FR) AGENCEMENT D'IMAGERIE OPTIQUE À UNITÉS DE SUPPORT MÉTROLOGIQUES RÉGLABLES ACTIVEMENT
Abstract:
(EN) The invention relates to an optical imaging arrangement (101) comprising an optical projection system (102), a support structure system (111, 112), and a control device (109). The optical projection system (102) comprises a group of optical elements supported by the support structure system (111, 112) and configured to transfer, in an exposure process using exposure light along an exposure light path, an image of a pattern of a mask (103.1) onto a substrate (104.1). The group of optical elements comprises a first optical element (106.6) and a second optical element (106.2) and the control device (109) comprises a sensor device(110) and an active device (113). The sensor device(110) is functionally associated to the first optical element(106.6) and is configured to capture mechanical disturbance information representative of a mechanical disturbance acting on the first optical element (106.6) in at least one degree of freedom up to all six degrees of freedom. The control device (109) is configured to control the active device (113) as a function of the mechanical disturbance information, such that the active device (113) acts on one of the optical elements (106.6) to at least partially correct an optical imaging error of the optical imaging arrangement (101) during the exposure process resulting from the mechanical disturbance acting on the first optical element (106.6). The active device (113) at least acts on the second optical element (106.2) to at least partially correct the optical imaging error.
(FR) L'invention porte sur un agencement d'imagerie optique (101) comprenant un système de projection optique (102), un système formant structure de support (111, 112) et un dispositif de commande (109). Le système de projection optique (102) comprend un groupe d'éléments optiques soutenu par le système formant structure de support (111, 112) et configuré pour transférer, lors d'un processus d'exposition par une lumière d'exposition suivant un trajet de lumière d'exposition, une image d'un motif d'un masque (103.1) sur un substrat (104.1). Le groupe d'éléments optiques comprend un premier élément optique (106.6) et un deuxième élément optique (106.2), et le dispositif de commande (109) comprend un dispositif capteur (110) et un dispositif actif (113). Le dispositif capteur (110) est associé fonctionnellement au premier élément optique (106.6) et configuré pour capter des informations de perturbation mécanique qui représentent une perturbation mécanique agissant sur le premier élément optique (106.6) selon au moins un degré de liberté et jusqu'à l'ensemble des six degrés de liberté. Le dispositif de commande (109) est configuré pour commander le dispositif actif (113) en fonction des informations de perturbation mécanique de manière à ce que le dispositif actif (113) agisse sur l'un des éléments optiques (106.6) afin de corriger au moins en partie une erreur d'imagerie optique de l'agencement d'imagerie optique (101) au cours du processus d'exposition, due à l'action de la perturbation mécanique sur le premier élément optique (106.6). Le dispositif actif (113) agit au moins sur le deuxième élément optique (106.2) afin de corriger au moins en partie l'erreur d'imagerie optique.
front page image
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)
Also published as:
CN108292099