Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persists, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2017092090) METHOD FOR MANUFACTURING QUANTUM DOT COLOUR FILM SUBSTRATE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2017/092090 International Application No.: PCT/CN2015/098351
Publication Date: 08.06.2017 International Filing Date: 23.12.2015
IPC:
G02F 1/1335 (2006.01) ,G02F 1/13357 (2006.01)
G PHYSICS
02
OPTICS
F
DEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
1
Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
01
for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
13
based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
133
Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
1333
Constructional arrangements
1335
Structural association of optical devices, e.g. polarisers, reflectors, with the cell
[IPC code unknown for ERROR IPC Code incorrect: invalid subgroup (0=>999999)!]
Applicants:
深圳市华星光电技术有限公司 SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO.,LTD. [CN/CN]; 中国广东省深圳市 光明新区塘明大道9-2号 NO.9-2, Tangming Road, Guangming District of Shenzhen, Guangdong 518132, CN
Inventors:
李兰艳 LI, Lanyan; CN
梁宇恒 LIANG, Yuheng; CN
Agent:
深圳市德力知识产权代理事务所 COMIPS INTELLECTUAL PROPERTY OFFICE; 中国广东省深圳市 福田区上步中路深勘大厦15E Room 15E Shenkan Building, No.1043 Shangbu Zhong Road Shenzhen, Guangdong 518028, CN
Priority Data:
201510872309.402.12.2015CN
Title (EN) METHOD FOR MANUFACTURING QUANTUM DOT COLOUR FILM SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT À FILM COLORÉ À POINTS QUANTIQUES
(ZH) 量子点彩膜基板的制作方法
Abstract:
(EN) A method for manufacturing a quantum dot colour film substrate. The method comprises: firstly, successively coating a base substrate (11) to form a black photo-resist layer (12) and a transparent photo-resist layer (13); then, utilizing first, second and third patterns (51, 52, 53) with different grey scales on a mask plate (50) to pattern the black photo-resist layer (12) and the transparent photo-resist layer (13); obtaining several transparent retaining walls (131) corresponding to the first pattern (51), auxiliary spacers (132) corresponding to the second pattern (52) and located on the transparent retaining walls (131), and main spacers (133) corresponding to the third pattern (53) and located on the transparent retaining walls (131), and at the same time, obtaining several black retaining walls (121) covered by several transparent retaining walls (131), wherein the several black retaining walls (121) and the several transparent retaining walls (131) thereon together constitute pixel retaining walls (100); and then, in a sub-pixel region enclosed by the several pixel retaining walls (100), forming a patterned quantum dot layer by means of ink-jet printing, so that the precision of ink-jet printing is greatly improved.
(FR) La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat à film coloré à points quantiques. Le procédé consiste à : d'abord revêtir successivement un substrat de base (11) de façon à former une couche de résine photosensible noire (12) et une couche de résine photosensible transparente (13) ; puis, utiliser des premier, deuxième et troisième motifs (51, 52, 53) avec des échelles de gris différentes situés sur une plaque de masque (50) pour appliquer des motifs à la couche de résine photosensible noire (12) et à la couche de résine photosensible transparente (13) ; obtenir plusieurs parois (131) de retenue transparentes correspondant au premier motif (51), des espaceurs auxiliaires (132) correspondant au deuxième motif (52) et situés sur les parois (131) de retenue transparentes et des espaceurs principaux (133) correspondant au troisième motif (53) et situés sur les parois (131) de retenue transparentes et, parallèlement, obtenir plusieurs parois (121) de retenue noires recouvertes par plusieurs parois (131) de retenue transparentes, les plusieurs parois (121) de retenue noires et les plusieurs parois (131) de retenue transparentes situées sur celles-ci constituant ensemble des parois (100) de retenue de pixels ; et puis, dans une région de sous-pixels entourée par les plusieurs parois (100) de retenue de pixels, former par impression à jet d'encre une couche de points quantiques ayant fait l'objet d'une formation de motifs, ce qui améliore considérablement la précision d'impression à jet d'encre.
(ZH) 一种量子点彩膜基板的制作方法,先在衬底基板(11)上依次涂布形成黑色光刻胶层(12)和透明光刻胶层(13),然后利用掩模板(50)上不同灰度的第一、第二、第三图形(51、52、53)图形化黑色光刻胶层(12)和透明光刻胶层(13),得到对应第一图形(51)的数条透明档墙(131)、对应第二图形(52)且位于透明档墙(131)上的辅助间隔物(132)、及对应第三图形(53)且位于透明档墙(131)上的主间隔物(133),同时得到被数条透明档墙(131)所覆盖的数条黑色档墙(121);数条黑色档墙(121)、及其上的数条透明档墙(131)共同构成像素档墙(100);然后在数条像素档墙(100)围出的子像素区域内采用喷墨打印的方式形成图形化量子点层,喷墨打印的精度得到较大提升。
front page image
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)
Also published as:
US20180031910