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1. (WO2017090380) RESONATOR DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
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Pub. No.: WO/2017/090380 International Application No.: PCT/JP2016/082310
Publication Date: 01.06.2017 International Filing Date: 31.10.2016
IPC:
H03H 9/24 (2006.01) ,H03H 3/007 (2006.01)
H ELECTRICITY
03
BASIC ELECTRONIC CIRCUITRY
H
IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
9
Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
24
Constructional features of resonators of material which is not piezo-electric, electrostrictive, or magnetostrictive
[IPC code unknown for H03H 3/07]
Applicants:
株式会社村田製作所 MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 京都府長岡京市東神足1丁目10番1号 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555, JP
Inventors:
梅田 圭一 UMEDA, Keiichi; JP
岸 武彦 KISHI, Takehiko; JP
山田 宏 YAMADA, Hiroshi; JP
福光 政和 FUKUMITSU, Masakazu; JP
Agent:
稲葉 良幸 INABA, Yoshiyuki; JP
大貫 敏史 ONUKI, Toshifumi; JP
Priority Data:
2015-22906924.11.2015JP
Title (EN) RESONATOR DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) DISPOSITIF RÉSONATEUR ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 共振装置及びその製造方法
Abstract:
(EN) In the present invention, resonant frequency is adjusted in a packaged resonator device. Provided are the following: a bottom cover formed from non-degenerate silicon; a resonator which includes a substrate formed from degenerate silicon and having a bottom surface facing the bottom cover, a first electrode layer and a second electrode layer laminated on the substrate, and a piezoelectric film formed between the first electrode layer and second electrode layer and having a surface facing the top surface of the substrate via the first electrode layer; and a top cover facing the bottom cover such that the resonator is interposed therebetween. The bottom surface of the substrate has an adjustment section which is a region where the depth or the height of the irregularities formed in the surface is greater than other regions on the bottom surface of the substrate, or is a region where the surface area occupied by irregularities is greater than such other regions.
(FR) Dans la présente invention, une fréquence de résonance est ajustée dans un dispositif résonateur encapsulé. L'invention comprend les éléments suivants : un couvercle inférieur formé en silicium non dégénéré ; un résonateur qui comprend un substrat formé en silicium dégénéré et ayant une surface inférieure faisant face au couvercle inférieur, une première couche d'électrode et une seconde couche d'électrode stratifiées sur le substrat, et un film piézoélectrique formé entre la première couche d'électrode et la seconde couche d'électrode et ayant une surface faisant face à la surface supérieure du substrat par l'intermédiaire de la première couche d'électrode ; et un couvercle supérieur faisant face au couvercle inférieur de sorte que le résonateur soit intercalé entre eux. La surface inférieure du substrat a une section d'ajustement qui est une région où la profondeur ou la hauteur des irrégularités formées dans la surface est supérieure aux autres régions sur la surface inférieure du substrat, ou est une région où la surface occupée par des irrégularités est supérieure aux autres régions.
(JA) パッケージ化された共振装置において、共振周波数の調整を行う。 縮退していないシリコンから成る下蓋と、縮退したシリコンから成り、下蓋 と対向する下面を有する基板と、当該基板に積層された第1電極層及び第2電極層と、第1電極層及び第2電極層の間に形成され、第1電極層を介して基板の上面と対向する面を有する圧電膜と、を有する共振子と、共振子を間に挟んで下蓋と対向する上蓋とを備え、基板の下面は、当該基板の下面における他の領域よりも表面に形成されている凹凸の深さないし高さが大きい領域、又は凹凸が占める面積が大きい領域である調整部を有する。
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)
Also published as:
CN108141196US20180226937