(EN) The present invention relates to a method for preparing a column spacer, and is characterized in using a mask including first, second, and third patterns having different light transmittance. In addition, according to the method for preparing a column spacer of the present invention, a taper angle between a matrix part and a spacer part may increase during manufacturing a column spacer in which the matrix part and the spacer part are continuously connected, and critical dimension of the spacer part may decrease. Therefore, a column spacer with fine patterns may be simply and efficiently manufactured.
(FR) La présente invention concerne un procédé pour préparer un élément d'espacement de colonne, et est caractérisé en ce qu'il utilise un masque comportant des premier, deuxième et troisième motifs ayant un facteur de transmission de lumière différent. En outre, selon le procédé de préparation d'un élément d'espacement de colonne de la présente invention, un angle conique entre une partie de matrice et une partie d'élément d'espacement peut augmenter pendant la fabrication d'un élément d'espacement de colonne, dans laquelle la partie de matrice et la partie d'élément d'espacement sont reliées de manière continue, et la dimension critique de la partie d'élément d'espacement peut diminuer. Par conséquent, un élément d'espacement de colonne ayant des motifs fins peut être fabriqué de manière simple et efficace.