(EN) The present invention relates to a novel metal precursor having improved thermal stability and volatility and can provide: a method for readily manufacturing a good quality metal oxide thin film at an excellent growth rate at low temperature by using the metal precursor; and a thin film manufactured by using the same.
(FR) La présente invention concerne un nouveau précurseur de métal ayant une meilleure stabilité thermique et une meilleure volatilité, qui peut fournir : un procédé permettant de fabriquer facilement un film mince d'oxyde de métal de bonne qualité à une excellente vitesse de croissance à basse température en utilisant le précurseur de métal; et un film mince fabriqué en l'utilisant.
(KO) 본 발명은 열적 안정성과 휘발성이 개선된 신규한 금속 전구체에 관한 것으로, 상기 금속 전구체를 이용하여 낮은 온도에서 우수한 성장 속도로, 쉽게 양질의 금속 산화물 박막을 제조하는 방법 및 이를 통해 제조된 박막을 제공할 수 있다.