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1. (WO2017069066) METAL MASK FOR SCAN DEPOSITION, DEPOSITION DEVICE, DEPOSITION METHOD, AND ELECTROLUMINESCENT DISPLAY DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2017/069066    International Application No.:    PCT/JP2016/080589
Publication Date: 27.04.2017 International Filing Date: 14.10.2016
IPC:
C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/04 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
Applicants: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522 (JP)
Inventors: KOBAYASHI, Yuhki; (--).
KIKUCHI, Katsuhiro; (--).
KAWATO, Shinichi; (--).
INOUE, Satoshi; (--).
NIBOSHI, Manabu; (--)
Agent: HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041 (JP)
Priority Data:
2015-207306 21.10.2015 JP
Title (EN) METAL MASK FOR SCAN DEPOSITION, DEPOSITION DEVICE, DEPOSITION METHOD, AND ELECTROLUMINESCENT DISPLAY DEVICE
(FR) MASQUE MÉTALLIQUE POUR DÉPÔT PAR BALAYAGE, DISPOSITIF DE DÉPÔT, PROCÉDÉ DE DÉPÔT ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT
(JA) スキャン蒸着用金属マスク、蒸着装置および蒸着方法およびエレクトロルミネッセンス表示装置
Abstract: front page image
(EN)Provided is a metal mask for scan deposition which is capable of forming a very fine linear deposition film pattern even on a large substrate. Two first unit aperture groups (2∙2a') are provided. The first unit aperture groups (2∙2a') are arranged offset from each other in the Y direction so as not to be next to each other in the X direction. Furthermore, the first unit aperture groups (2∙2a') which are next to each other in the Y direction are arranged offset from each other in the X direction by ½ of a first aperture pitch.
(FR)La présente invention concerne un masque métallique destiné à un dépôt par balayage qui peut former un motif de film de dépôt linéaire très fin même sur un grand substrat. L'invention concerne également deux premiers groupes (2∙2a') d'ouverture d'unité. Les premiers groupes (2∙2a') d'ouverture d'unité sont disposés en décalé les uns par rapport aux autres dans la direction Y de sorte à ne pas être les uns à côté des autres dans la direction X. En outre, lesdits premiers groupes (2∙2a') d'ouverture d'unité, qui sont les uns à côté des autres dans la direction Y, sont disposés en décalé les uns par rapport aux autres dans la direction X par la moitié d'un premier pas d'ouverture.
(JA)大型基板にも高精細な直線状の蒸着膜パターンを形成できるスキャン蒸着用金属マスクを提供する。2個の第1のユニット開口群(2・2a')が備えられており、第1のユニット開口群(2・2a')は、X方向において互いに隣接しないようにY方向にずらして配置されているとともに、Y方向において隣接する第1のユニット開口群(2・2a')同士は、X方向に、第1開口ピッチの1/2倍ずらして配置されている。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)