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1. (WO2017066077) METHOD AND APPARATUS FOR FORMING ADVANCED POLISHING PADS USING AN ADDITIVE MANUFACTURING PROCESS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2017/066077    International Application No.:    PCT/US2016/055793
Publication Date: 20.04.2017 International Filing Date: 06.10.2016
IPC:
B24D 11/00 (2006.01), B24D 3/28 (2006.01), B24B 37/24 (2012.01), B33Y 10/00 (2015.01), B24B 37/26 (2012.01), B24D 11/04 (2006.01), B24B 37/22 (2012.01), B33Y 80/00 (2015.01), B24D 18/00 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US)
Inventors: GANAPATHIAPPAN, Sivapackia; (US).
FU, Boyi; (US).
CHOCKALINGAM, Ashwin; (US).
REDFIELD, Daniel; (US).
BAJAJ, Rajeev; (US).
ORILALL, Mahendra C.; (US).
NG, Hou T.; (US).
FUNG, Jason G.; (US).
YAMAMURA, Mayu; (US)
Agent: PATTERSON, B. Todd; (US).
TACKETT, Keith M.; (US).
STEVENS, Joseph J.; (US)
Priority Data:
14/885,950 16.10.2015 US
14/887,240 19.10.2015 US
14/920,801 22.10.2015 US
62/280,537 19.01.2016 US
15/002,384 20.01.2016 US
62/304,134 04.03.2016 US
62/323,599 15.04.2016 US
62/331,234 03.05.2016 US
62/339,807 21.05.2016 US
62/380,015 26.08.2016 US
62/380,334 26.08.2016 US
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR FORMING ADVANCED POLISHING PADS USING AN ADDITIVE MANUFACTURING PROCESS
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR FORMATION DE TAMPONS DE POLISSAGE PERFECTIONNÉS UTILISANT UN PROCESSUS DE FABRICATION ADDITIVE
Abstract: front page image
(EN)Embodiments of the present disclosure relate to advanced polishing pads with tunable chemical, material and structural properties, and new methods of manufacturing the same. According to one or more embodiments of the disclosure, it has been discovered that a polishing pad with improved properties may be produced by an additive manufacturing process, such as a three-dimensional (3D) printing process. Embodiments of the present disclosure thus may provide an advanced polishing pad that has discrete features and geometries, formed from at least two different materials that include functional polymers, functional oligomers, reactive diluents, addition polymer precursor compounds, catalysts, and curing agents. For example, the advanced polishing pad may be formed from a plurality of polymeric layers, by the automated sequential deposition of at least one polymer precursor composition followed by at least one curing step, wherein each layer may represent at least one polymer composition, and/or regions of different compositions. Embodiments of the disclosure further provide a polishing pad with polymeric layers that may be interpenetrating polymer networks.
(FR)Selon des modes de réalisation, la présente invention concerne des tampons de polissage perfectionnés dotés de propriétés chimiques, matérielles et structurales réglables, et des nouveaux procédés de fabrication de ceux-ci. Selon un ou plusieurs modes de réalisation de la présente invention, on a découvert qu'un tampon de polissage doté de propriétés améliorées peut être produit par un processus de fabrication additive, tel qu'un processus d'impression en trois dimensions (3D). Des modes de réalisation de la présente invention peuvent ainsi produire un tampon de polissage perfectionné qui a des caractéristiques et des géométries distinctes, constitué d'au moins deux matériaux différents qui comprennent des polymères fonctionnels, des oligomères fonctionnels, des diluants réactifs, des composés de précurseurs polymères d'ajout, des catalyseurs et des agents de durcissement. Par exemple, le tampon de polissage perfectionné peut être constitué d'une pluralité de couches polymères, par le dépôt séquentiel automatisé d'au moins une composition de précurseur polymère suivi par au moins une étape de durcissement, chaque couche pouvant représenter au moins une composition polymère, et/ou des régions de compositions différentes. Des modes de réalisation de la présente invention concernent en outre un tampon de polissage doté de couches polymères qui peuvent être des réseaux polymères à interpénétration.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)