WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2017065785) METHOD AND SYSTEM FOR INTRODUCING A RESERVE NOSE WIRE IN A FACEMASK PRODUCTION LINE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2017/065785 International Application No.: PCT/US2015/055863
Publication Date: 20.04.2017 International Filing Date: 16.10.2015
IPC:
A41D 13/11 (2006.01)
Applicants: AVENT, INC.[US/US]; 5405 Windward Parkway Alpharetta, Georgia 30004, US
Inventors: WEBER, Joseph P.; US
HOUDE, Ajay Y.; US
HARRINGTON, David Lamar; US
PAMPERIN, Mark Thomas; US
HARRIS, Nathan Craig; US
Agent: BONDURA, Stephen E.; US
Priority Data:
Title (EN) METHOD AND SYSTEM FOR INTRODUCING A RESERVE NOSE WIRE IN A FACEMASK PRODUCTION LINE
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME POUR L'INTRODUCTION D'UN FIL DE NEZ DE RÉSERVE DANS UNE CHAÎNE DE PRODUCTION DE MASQUE FACIAL
Abstract: front page image
(EN) A method and associated method are provided or introducing a supply of reserve nose wires (102, 104) in a facemask (11) production line (106) prior to depletion of running nose wires (104) in the production line (106). A first nose wire source (103, 105) and first cutter system are provided for supplying the running nose wires (104) to the production line (106). A reserve nose wire source (103) and second cutter system are staged in a stand-by state proximate to the first nose wire source (103, 105). Prior to depletion of the first nose wire source (103, 105), the reserve nose wire source (103) and second cutter system are brought up to an operational speed while diverting nose wires (102, 104) from the second cutter system away from the production line (106). At operational speed of the reserve nose wire source (103) and second cutter system, nose wires (102, 104) from the second cutter system are diverted to the production line (106) while diverting nose wires (102, 104) from the first cutter system away from the production line (106).
(FR) Un procédé et un procédé associé sont fournis pour l'introduction d'une amenée de fils de nez de réserve (102, 104) dans une chaîne de production (106) de masque facial (11) avant l'appauvrissement des fils de nez (104) en circulation dans la chaîne de production (106). Une première source de fil de nez (103, 105) et un premier système de coupe sont présents pour l'amenée des fils de nez (104) en circulation à la chaîne de production (106). Une source de fil de nez (103) de réserve et un deuxième système de coupe sont étagés dans un état d'attente à proximité de la première source de fil de nez (103, 105). Avant l'appauvrissement de la première source de fil de nez (103, 105), la source de fil de nez (103) de réserve et le deuxième système de coupe sont amenés jusqu'à une vitesse de fonctionnement tout en déviant les fils de nez (102, 104) du deuxième système de coupe de la chaîne de production (106). À la vitesse opérationnelle de la source de fil de nez de réserve (103) et du deuxième système de coupe, les fils de nez (102, 104) provenant du deuxième système de coupe sont déviés vers la chaîne de production (106) tout en déviant les fils de nez (102, 104) du premier système de coupe de la chaîne de production (106).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)