WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2017065749) ADSORBENT MATERIAL FOR REMOVAL OF HYDROGEN SULFIDE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2017/065749    International Application No.:    PCT/US2015/055324
Publication Date: 20.04.2017 International Filing Date: 13.10.2015
IPC:
B01J 20/06 (2006.01)
Applicants: REGENTS OF THE UNIVERSITY OF MINNESOTA [US/US]; 600 McNamara Alumni Center 200 Oak Street SE Minneapolis, Minnesota 55455-2020 (US).
WAHEDI, Yasser Al [AE/AE]; (AE).
HASHIMI, Al [AE/AE]; (AE)
Inventors: WAHEDI, Yasser Al; (AE).
HASHIMI, Al; (AE).
TSAPATSIS, Michael; (US).
BALASUBRAMANIAN, Veerappan Vaithilingam; (US)
Agent: BOWLEY, Chris C.; (US)
Priority Data:
Title (EN) ADSORBENT MATERIAL FOR REMOVAL OF HYDROGEN SULFIDE
(FR) MATÉRIAU ADSORBANT POUR L’ÉLIMINATION DE SULFURE D’HYDROGÈNE
Abstract: front page image
(EN)An example method of removing hydrogen sulfide from an input gas includes exposing an adsorbent material to an input gas to obtain an output gas. A concentration of hydrogen sulfide of the output gas is less than a concentration of hydrogen sulfide of the input gas. The adsorbent material includes copper oxide, magnesium oxide, and aluminum oxide. An atomic ratio of copper to magnesium to aluminum of the adsorbent material is X:Y:Z, where X is greater than or equal to 0.6 and less than or equal to 0.9, where Y is greater than or equal to 0 and less than or equal to 0.2, where Z is greater than or equal to 0 and less than or equal to 0.2, and where X + Y + Z is equal to 1.
(FR)L'invention concerne un exemple de procédé pour éliminer le sulfure d'hydrogène d'un gaz d'entrée, qui consiste à exposer un matériau adsorbant à un gaz d'entrée pour obtenir un gaz de sortie. Une concentration de sulfure d'hydrogène du gaz de sortie est inférieure à une concentration de sulfure d'hydrogène du gaz d'entrée. Le matériau adsorbant comprend de l'oxyde de cuivre, de l'oxyde de magnésium et de l'oxyde d'aluminium. Un rapport atomique de cuivre/magnésium/aluminium du matériau adsorbant est X:Y:Z, où X est supérieur ou égal à 0,6 et inférieur ou égal à 0,9, Y est supérieur ou égal à 0 et inférieur ou égal à 0,2, Z est supérieur ou égal à 0 et inférieur ou égal à 0,2, et X + Y + Z est égal à 1.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)