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1. (WO2017062115) METHODOLOGY FOR CHAMBER PERFORMANCE MATCHING FOR SEMICONDUCTOR EQUIPMENT
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Pub. No.: WO/2017/062115 International Application No.: PCT/US2016/049584
Publication Date: 13.04.2017 International Filing Date: 31.08.2016
IPC:
H01L 21/66 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21
Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
66
Testing or measuring during manufacture or treatment
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21
Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67
Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components
Applicants:
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventors:
LU, Xuesong; US
ZHANG, Lin; US
LE, Andrew V.; US
Agent:
PATTERSON, B. Todd; US
TABOADA, Keith; US
Priority Data:
14/875,67305.10.2015US
Title (EN) METHODOLOGY FOR CHAMBER PERFORMANCE MATCHING FOR SEMICONDUCTOR EQUIPMENT
(FR) MÉTHODOLOGIE PERMETTANT UNE ADAPTATION DES PERFORMANCES DE CHAMBRE POUR UN ÉQUIPEMENT À SEMI-CONDUCTEUR
Abstract:
(EN) Embodiments of the present disclosure provide methodology to match and calibrate processing chamber performance in a processing chamber. In one embodiment, a method for calibrating a processing chamber for semiconductor manufacturing process includes performing a first predetermined process in a processing chamber, collecting a first set of signals transmitted from a first group of sensors disposed in the processing chamber to a controller while performing the predetermined process, analyzing the collected first set of signals;, comparing the collected first set of signals with database stored in the controller to check sensor responses from the first group of sensors, calibrating sensors based on the collected first set of signals when a mismatch sensor response is found, subsequently performing a first series of processes in the processing chamber, and collecting a second set of signals transmitted from the sensors to the controller while performing the series of processes.
(FR) La présente invention porte, dans des modes de réalisation, sur une méthodologie permettant de mettre en correspondance et d'étalonner des performances de chambre de traitement dans une chambre de traitement. Selon un mode de réalisation, un procédé permettant d'étalonner une chambre de traitement pour un procédé de fabrication de semi-conducteurs consiste à effectuer un premier processus prédéterminé dans une chambre de traitement; à collecter un premier ensemble de signaux transmis à partir d'un premier groupe de capteurs disposés dans la chambre de traitement à un dispositif de commande tout en effectuant le processus prédéterminé ; à analyser le premier ensemble collecté de signaux ; à comparer le premier ensemble collecté de signaux avec une base de données stockée dans le dispositif de commande pour vérifier des réponses de capteur provenant du premier groupe de capteurs ; à étalonner des capteurs en se basant sur le premier ensemble collecté de signaux lorsqu'une réponse de capteur discordante est trouvée ; à effectuer, par la suite, une première série de processus dans la chambre de traitement ; et à collecter un second ensemble de signaux transmis depuis les détecteurs au dispositif de commande tout en effectuant la série de processus.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)