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1. (WO2017061109) ABRASIVE AGENT FOR MAGNETIC DISK AND METHOD FOR PRODUCING MAGNETIC DISK
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2017/061109    International Application No.:    PCT/JP2016/004475
Publication Date: 13.04.2017 International Filing Date: 05.10.2016
IPC:
C09K 3/14 (2006.01), B24B 37/00 (2012.01), C09G 1/02 (2006.01), G11B 5/84 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
Applicants: SANYO CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 11-1, Ikkyo Nomoto-cho, Higashiyama-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6050995 (JP)
Inventors: WAKATSUKI, Atsushi; (JP).
NAKAYAMA, Masatoshi; (JP).
HIGASHI, Tomoya; (JP)
Agent: SUGIMURA, Kenji; (JP)
Priority Data:
2015-199657 07.10.2015 JP
2016-108261 31.05.2016 JP
Title (EN) ABRASIVE AGENT FOR MAGNETIC DISK AND METHOD FOR PRODUCING MAGNETIC DISK
(FR) AGENT ABRASIF POUR DISQUE MAGNÉTIQUE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISQUE MAGNÉTIQUE
(JA) 磁気ディスク用研磨材及び磁気ディスクの製造方法
Abstract: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide is an abrasive agent for a magnetic disk, the agent having a fast polishing speed with respect to an object to be polished. Provided is an abrasive agent for a magnetic disk comprising 2 or more types of abrasive grains (A) having different grain diameters (D50v) that account for 50% of the cumulative grain diameter distribution (volume standard) and a compound (B) having an acid dissociation constant (pKa), wherein: when the number of abrasive grains having a grain diameter of less than 15 nm is X and the number of abrasive grains having a grain diameter of 15 nm or greater is Y, the ratio (X/Y) of X and Y is 0.1 to 200; 1 or more types of compound (B) have a pKa within a range of 1 < pKa < 5; and 1 or more types of compound (B) have a pKa within a range of 8 < pKa <10. Also provided is a method for producing a magnetic disk comprising a step for polishing a magnetic disk using this abrasive agent for a magnetic disk.
(FR)La présente invention concerne un agent abrasif pour un disque magnétique, l'agent ayant une vitesse de polissage rapide par rapport à un objet à polir. La présente invention concerne un agent abrasif pour un disque magnétique comprenant deux types de grains abrasifs (A) ou plus ayant des diamètres de grain différents (D50v) qui comptent pour 50 % de la répartition de diamètre de grain cumulative (volume standard) et un composé (B) doté d'une constante de dissociation acide (pKa). Lorsque le nombre de grains abrasifs ayant un diamètre de grain inférieur à 15 nm est X et que le nombre de grains abrasifs ayant un diamètre de grain supérieur ou égal à 15 nm est Y, le rapport (X/Y) de X et Y est de 0,1 pour 200 ; un ou plusieurs types de composé (B) ont un pKa compris dans une plage de 1 < pKa < 5 ; et un ou plusieurs types de composé (B) ont un pKa compris dans une plage de 8 < pKa < 10. La présente invention concerne également un procédé de production d'un disque magnétique comprenant une étape de polissage d'un disque magnétique à l'aide de l'agent abrasif de l'invention pour un disque magnétique.
(JA)被研磨物に対して高い研磨速度を有する磁気ディスク用研磨材を提供する。 積算粒径分布(体積基準)が50%となる粒径(D50v)の異なる2種以上の砥粒(A)及び酸解離定数(pKa)を有する化合物(B)を含む磁気ディスク用研磨材であって、粒径が15nm未満である砥粒粒子数をX、粒径が15nm以上である砥粒粒子数をYとした場合のXとYの比(X/Y)が0.1以上200以下であり、1種以上の化合物(B)が1<pKa<5の範囲にpKaを有し、かつ1種以上の化合物(B)が8<pKa<10の範囲にpKaを有する磁気ディスク用研磨材;この磁気ディスク用研磨材を用いて磁気ディスクを研磨する工程を含む磁気ディスクの製造方法。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)