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Pub. No.:    WO/2017/061034    International Application No.:    PCT/JP2015/078771
Publication Date: 13.04.2017 International Filing Date: 09.10.2015
G01N 27/62 (2006.01), H01J 49/10 (2006.01), H01J 49/26 (2006.01)
Applicants: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP)
Inventors: NISHIMURA Kazushige; (JP).
SATAKE Hiroyuki; (JP).
SUGIYAMA Masuyuki; (JP).
HASEGAWA Hideki; (JP).
SAKAI Tomoyuki; (JP)
Agent: HIRAKI Yusuke; (JP)
Priority Data:
(JA) イオン分析装置
Abstract: front page image
(EN)To reduce device contamination caused by an additive and rapidly switch between starting and stopping additive spraying, this ion analysis device is provided with an ion source for ionizing a substance to be measured, a spraying unit for atomizing and spraying a liquid including an additive that reacts with the substance to be measured toward the substance to be measured, a separation and analysis unit for separating and analyzing ions generated from reaction between the substance to be measured and the additive, a detector for detecting ions separated and analyzed by the separation and analysis unit, and a control unit for reducing the flow rate of the additive supplied to the spraying unit when the additive is not necessary.
(FR)La présente invention concerne, pour réduire une contamination de dispositif provoquée par un additif et commuter rapidement entre le démarrage et l'arrêt de la pulvérisation d'additif, un dispositif d'analyse d'ions pourvu d'une source d'ions afin d'ioniser une substance à mesurer, une unité de pulvérisation afin d'atomiser et pulvériser un liquide comprenant un additif qui réagit avec la substance à mesurer en direction de la substance à mesurer, une unité d'analyse et de séparation afin de séparer et d'analyser les ions générés à partir de la réaction entre la substance à mesurer et l'additif, un détecteur afin de détecter des ions séparés et analysés par l'unité d'analyse et de séparation et une unité de commande afin de réduire le débit de l'additif fourni à l'unité de pulvérisation lorsque l'additif n'est pas nécessaire.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)