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1. (WO2017060216) PROCESS FOR INDIUM OR INDIUM ALLOY DEPOSITION AND ARTICLE
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Pub. No.: WO/2017/060216 International Application No.: PCT/EP2016/073631
Publication Date: 13.04.2017 International Filing Date: 04.10.2016
IPC:
C25D 5/10 (2006.01) ,C25D 5/12 (2006.01) ,C25D 5/48 (2006.01) ,C25D 7/00 (2006.01) ,C25F 5/00 (2006.01) ,C23C 28/02 (2006.01) ,C25D 5/40 (2006.01) ,C23C 18/16 (2006.01)
Applicants: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH[DE/DE]; Erasmusstraße 20 10553 Berlin, DE
Inventors: VAZHENIN, Grigory; DE
SPERLING, Jan; DE
PIEPER, Stefan; DE
CASTELLANI, Mauro; DE
KIRBS, Andreas; DE
ROHDE, Dirk; DE
Priority Data:
15188618.106.10.2015EP
Title (EN) PROCESS FOR INDIUM OR INDIUM ALLOY DEPOSITION AND ARTICLE
(FR) PROCÉDÉ DE DÉPÔT D'INDIUM OU D'ALLIAGE D'INDIUM ET ARTICLE
Abstract: front page image
(EN) The present invention deals with a process for deposition of indium or indium alloys and an article obtained by the process, wherein the process comprises the steps • i. providing a substrate having at least one metal or metal alloy surface; • ii. depositing a first indium or indium alloy layer on at least one portion of said surface whereby a composed phase layer is formed of a part of the metal or metal alloy surface and a part of the first indium or indium alloy layer; • iii. removing partially or wholly the part of the first indium or indium alloy layer which has not been formed into the composed phase layer; • iv. depositing a second indium or indium alloy layer on the at least one portion of the surface obtained in step iii. • v.
(FR) La présente invention concerne un procédé de dépôt d'indium ou d'alliages d'indium et un article obtenu par le procédé, le procédé comprenant les étapes de • i. fourniture d'un substrat ayant au moins une surface métallique ou d'alliage métallique ; • ii. dépôt d'une première couche d'indium ou d'alliage d'indium sur au moins une portion de ladite surface, moyennant quoi une couche de phase composée est formée d'une partie de la surface métallique ou d'alliage métallique et d'une partie de la première couche d'indium ou d'alliage d'indium ; • iii. élimination partielle ou totale de la partie de la première couche d'indium ou d'alliage d'indium qui n'a pas été formée dans la couche de phase composée ; • iv. dépôt d'une seconde couche d'indium ou d'alliage d'indium sur la au moins une portion de la surface obtenue lors de l'étape iii.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)