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1. (WO2017059745) LARGE-AREA MICRO-NANO PATTERNING APPARATUS AND METHOD
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Pub. No.: WO/2017/059745 International Application No.: PCT/CN2016/096348
Publication Date: 13.04.2017 International Filing Date: 23.08.2016
IPC:
G03F 7/00 (2006.01)
Applicants: QINGDAO TECHNOLOGICAL UNIVERSITY[CN/CN]; No.11 Fushun Road Qingdao, Shandong 266033, CN
Inventors: LAN, Hongbo; CN
Agent: JINAN SHENGDA INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY CO.LTD; Room B308,Huate Square, No.17703 Jingshi Road, Lixia District Jinan, Shandong 250061, CN
Priority Data:
201510654336.410.10.2015CN
Title (EN) LARGE-AREA MICRO-NANO PATTERNING APPARATUS AND METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS À L'ÉCHELLE MICROSCOPIQUE/NANOMÉTRIQUE SUR UNE GRANDE SURFACE
(ZH) 大面积微纳图形化的装置和方法
Abstract: front page image
(EN) A method and an apparatus for large-area micro-nano patterning. Said apparatus comprises: a frame (1), a worktable (2), a wafer supporting platform (3), a substrate (4), an imprint material (5), a soft mold (6), a roller (7), a UV light source (8), an imprint mechanism (9), a vacuum line (10), and a pressure pipeline (11). A large-area micro-nano patterning method is implemented on the basis of said apparatus, comprising: pre-treating; imprinting and curing; demolding; and post-treating. Said method sufficiently combines the advantages of both flat nano-imprint process and roller nano-imprint process, completing large-area imprint and demolding operations by means of close cooperation of the roller, soft mold, worktable and gas line system. This achieves high-efficient and low-cost scale production of large-area micro-nano structures on oversized, non-flat rigid substrates or on fragile substrates, thereby solving the difficult problem in forming a large-area micro-nano pattern on a meter-level oversized rigid substrate. This has the characteristics of simple structure and process, high efficiency, low cost, high accuracy imprinted pattern and low defect rate.
(FR) La présente invention a trait à un procédé et un appareil pour la formation de motifs à l'échelle microscopique/nanométrique sur une grande surface. Ledit appareil comporte un cadre (1), une table de travail (2), une plateforme de support de tranche (3), un substrat (4), un matériau d'impression (5), un moule souple (6), un rouleau (7), une source de lumière UV (8), un mécanisme d'impression (9), une ligne de vide (10), et une conduite sous pression (11). Un procédé de formation de motifs à l'échelle microscopique/nanométrique sur une grande surface est mis en œuvre sur la base dudit appareil, et il comprend : un prétraitement; une impression et un durcissement; un démoulage; et un post-traitement. Ledit procédé combine de manière suffisante les avantages d'un processus de nano-impression plane et d'un processus de nano-impression au rouleau, et il exécute des opérations d'impression sur une grande surface et de démoulage au moyen d'une étroite coopération du rouleau, du moule souple, de la table de travail et du système de conduite de gaz. Il est ainsi possible d'obtenir une fabrication à grande échelle bon marché et à haut rendement de structures à l'échelle microscopique/nanométrique sur une grande surface sur des substrats rigides non plats et surdimensionnés ou sur des substrats fragiles, ce qui permet de résoudre le problème difficile posé par la formation d'un motif à l'échelle microscopique/nanométrique sur une grande surface sur un substrat rigide surdimensionné de l'ordre du mètre. La présente invention se caractérise par une structure et un processus simples, un rendement élevé, un faible coût, un motif imprimé de grande précision, et un faible taux de défauts.
(ZH) 一种大面积微纳图形化的方法和装置,该装置机架(1)、工作台(2)、承片台(3)、衬底(4)、压印材料(5)、软模具(6)、滚轮(7)、紫外光光源(8)、压印机构(9)、真空管路(10)、压力管路(11)。基于该装置实现大面积微纳图形化的方法:预处理;压印和固化;脱模;后处理。该方法充分结合了平板型纳米压印和滚轮型纳米压印工艺的优势,通过滚轮、软模具、工作台和气路系统的密切配合,完成大面积压印和脱模操作。实现在超大尺寸、非平整刚性衬底、或易碎衬底上高效、低成本规模化制造大面积微纳米结构,解决了米级尺度超大尺寸刚性衬底的大面积微纳米图形化难题。具有结构和工艺简单、效率高、成本低、压印图形精度高和缺陷率低的特点。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)