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1. (WO2017059629) QUANTUM DOT COLOR FILM PREPARATION METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2017/059629    International Application No.:    PCT/CN2015/098155
Publication Date: 13.04.2017 International Filing Date: 22.12.2015
IPC:
G02F 1/1335 (2006.01)
Applicants: SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; NO.9-2, Tangming Road, Guangming District of Shenzhen, Guangdong 518132 (CN)
Inventors: LIANG, Yuheng; (CN)
Agent: COMIPS INTELLECTUAL PROPERTY OFFICE; Room 15E Shenkan Building, No.1043 Shangbu Zhong Road Shenzhen, Guangdong 518028 (CN)
Priority Data:
201510646777.X 08.10.2015 CN
Title (EN) QUANTUM DOT COLOR FILM PREPARATION METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE DE PRÉPARATION DE FILM COLORÉ À POINTS QUANTIQUES
(ZH) 量子点彩膜的制备方法
Abstract: front page image
(EN)A quantum dot color film preparation method, comprising: utilizing a transparent organic photoresist material, and through a photolithography process, forming a blue sub-pixel portion of a quantum dot color film; performing hydrophobic treatment on a transparent organic photoresist layer (2) and, utilizing a hydrophobic property, sequentially coating a green quantum dot curable polymer and a red quantum dot photoresist on a corresponding region, so as to sequentially obtain a green quantum dot curable polymer layer (3), and a red quantum dot photoresist layer (4) thereon; and etching part of the red quantum dot photoresist layer (4) using a photolithography process, so as to obtain a green sub-pixel portion and a red sub-pixel portion of a quantum dot color film. Compared with a traditional quantum dot color film manufacturing method, at least one photolithography process is eliminated, greatly simplifying processing, decreasing costs, improving production efficiency, and only requiring the development of a single quantum dot photoresist, reducing development difficulty and cost.
(FR)L'invention concerne un procédé de préparation de film coloré à points quantiques consistant à : utiliser un matériau de résine photosensible organique transparente, et grâce à un procédé de photolithographie, former une partie de sous-pixel bleue d'un film coloré à points quantiques ; appliquer un traitement hydrophobe à une couche de résine photosensible organique transparente (2) et, à l'aide d'une propriété hydrophobe, appliquer successivement un polymère durcissable à points quantiques vert et une résine photosensible à points quantiques rouge sur une région correspondante, de manière à obtenir dessus successivement une couche de polymère durcissable à points quantiques verte (3) et une couche de résine photosensible à points quantiques rouge (4) ; et décaper une partie de la couche de résine photosensible à points quantiques rouge (4) à l'aide d'un procédé de photolithographie, de façon à obtenir une partie de sous-pixel verte et une partie de sous-pixel rouge d'un film coloré à points quantiques. Comparé à un procédé classique de fabrication de film coloré à points quantiques, au moins un procédé de photolithographie est éliminé, simplifiant considérablement le traitement, réduisant les coûts, améliorant l'efficacité de production et nécessitant uniquement le développement d'une seule résine photosensible à points quantiques, réduisant la difficultés de développement et les coûts.
(ZH)一种量子点彩膜的制备方法,该方法利用透明有机光阻材料通过光刻工艺形成量子点彩膜的蓝色子像素部分后,对透明有机光阻层(2)进行疏水处理,借助疏水特性依次将绿色量子点固化胶、及红色量子点光刻胶涂布于相应的区域上,依次得到绿色量子点固化胶层(3)、及其上的红色量子点光刻胶层(4),再通过光刻工艺将部分红色量子点光刻胶层(4)进行蚀刻,即可得到量子点彩膜的绿色子像素部分、及红色子像素部分,相对于传统的量子点彩膜的制作方法至少减少了一次光刻工艺,大大简化了制程、降低了成本,提高了生产效率,且只需要开发一种量子点光刻胶,降低了开发的难度和成本。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)