WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2017057203) RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.: WO/2017/057203 International Application No.: PCT/JP2016/078130
Publication Date: 06.04.2017 International Filing Date: 23.09.2016
IPC:
G03F 7/039 (2006.01) ,C08F 220/18 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: JSR CORPORATION[JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
Inventors: MIYATA Hiromu; JP
Agent: AMANO Kazunori; JP
Priority Data:
2015-19234929.09.2015JP
Title (EN) RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À UN RAYONNEMENT ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE
(JA) 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
Abstract: front page image
(EN) The present invention is a radiation sensitive resin composition which contains: a polymer having a first structural unit that contains an acid-cleavable group and an oxo acid group or phenolic hydroxyl group that is protected by the acid-cleavable group; and a radiation sensitive acid generator represented by formula (b). This radiation sensitive resin composition is characterized in that the acid-cleavable group is represented by formula (1). In formula (1), Ar represents a (m + n + 1)-valent group derived from an aromatic ring having 6-30 carbon atoms; R1 represents a divalent organic group having 3-20 carbon atoms; R2 represents a halogen atom or a monovalent organic group having 1-20 carbon atoms; and m represents an integer of 1-13 and n represents an integer of 0-13, provided that (m + n) is 13 or less. In formula (b), Rp1 represents a monovalent group containing a ring structure having 6 or more ring members; and X+ represents a monovalent radiation sensitive onium cation.
(FR) La présente invention concerne une composition de résine sensible à un rayonnement, qui contient : un polymère ayant une première unité structurelle qui contient un groupe clivable par un acide et un groupe oxacide ou un groupe hydroxyle phénolique qui est protégé par le groupe clivable par un acide ; et un générateur d'acide sensible à un rayonnement représenté par la formule (b). Cette composition de résine sensible à un rayonnement est caractérisée par le fait que le groupe clivable par un acide est représenté par la formule (1). Dans la formule (1), Ar représente un groupe de valence (m + n + 1) dérivé d'un noyau aromatique ayant 6-30 atomes de carbone ; R1 représente un groupe organique divalent ayant 3-20 atomes de carbone ; R2 représente un atome d'halogène ou un groupe organique monovalent ayant 1-20 atomes de carbone ; et m représente un nombre entier de 1 à 13 et n représente un nombre entier de 0 à 13, à condition que (m + n) est de 13 ou moins. Dans la formule (b), Rp1 représente un groupe monovalent contenant une structure de noyau ayant au moins 6 éléments de noyau ; et X+ représente un cation d'onium sensible à un rayonnement monovalent.
(JA) 本発明は、酸解離性基及びこの酸解離性基により保護されたオキソ酸基又はフェノール性水酸基を含む第1構造単位を有する重合体と、下記式(b)で表される感放射線性酸発生剤とを含有する感放射線性樹脂組成物であって、上記酸解離性基が、下記式(1)で表されることを特徴とする。下記式(1)中、Arは、炭素数6~30の芳香環に由来する(m+n+1)価の基である。Rは、炭素数3~20の2価の有機基である。Rは、ハロゲン原子又は炭素数1~20の1価の有機基である。mは、1~13の整数である。nは、0~13の整数である。但し、m+nは、13以下である。下記式(b)中、Rp1は、環員数6以上の環構造を含む1価の基である。Xは、1価の感放射線性オニウムカチオンである。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)