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1. (WO2017056845) METHOD FOR MANUFACTURING DISHWASHER/DRYER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2017/056845    International Application No.:    PCT/JP2016/075780
Publication Date: 06.04.2017 International Filing Date: 02.09.2016
IPC:
A47L 15/42 (2006.01), C23C 24/08 (2006.01), C23C 26/00 (2006.01)
Applicants: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO., LTD. [JP/JP]; 6-28, Rokuban-cho, Chiyoda-ku, Tokyo 1028465 (JP)
Inventors: SHIGERU Keijiro; (JP)
Agent: SHIGA Masatake; (JP).
TAKAHASHI Norio; (JP).
SUZUKI Mitsuyoshi; (JP)
Priority Data:
2015-189189 28.09.2015 JP
Title (EN) METHOD FOR MANUFACTURING DISHWASHER/DRYER
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF DE LAVAGE ET DE SÉCHAGE DE VAISSELLE
(JA) 食器洗い乾燥機の製造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is a method for manufacturing a dishwasher/dryer provided with an inner wall comprising a stainless-steel plate that has on the surface thereof a hydrophilic coating that is durable with respect to alkaline detergents and also sufficiently durable with respect to acidic detergents. This method for manufacturing a dishwasher/dryer includes: a step for forming a first layer that contains zirconium oxide and silicon oxide on the surface of the inner wall, at a heat-treatment temperature of 200°C or higher; a step for forming a second layer that contains an oxoacid on the surface of the first layer, at a heat-treatment temperature lower than the heat-treatment temperature used for the first layer; and a step for washing off the second layer to obtain a thin-film layer that contains zirconium oxide and silicon oxide on the surface of the inner wall, the water contact angle of the surface of the thin-film layer being 20° or less. The first layer contains 80% by mass or more of zirconium oxide in terms of oxides, and 1-20% by mass of silicon oxide in terms of oxides.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif de lavage et de séchage de vaisselle pourvu d'une paroi intérieure comprenant une plaque en acier inoxydable comportant sur sa surface un revêtement hydrophile qui est résistant aux détergents alcalins et également suffisamment résistant aux détergents acides. Ce procédé de fabrication d'un dispositif de lavage et de séchage de vaisselle comprend : une étape consistant à former une première couche qui contient de l'oxyde de zirconium et de l'oxyde de silicium sur la surface de la paroi intérieure, à une température de traitement thermique de 200 °C ou plus ; une étape consistant à former une seconde couche qui contient un oxoacide sur la surface de la première couche, à une température de traitement thermique inférieure à la température de traitement thermique utilisée pour la première couche ; et une étape consistant à éliminer la seconde couche par lavage pour obtenir une couche en film mince qui contient de l'oxyde de zirconium et de l'oxyde de silicium sur la surface de la paroi intérieure, l'angle de contact avec l'eau de la surface de la couche en film mince étant de 20° ou moins. La première couche contient 80 % en masse ou plus d'oxyde de zirconium en oxydes, et de 1 à 20 % en masse d'oxyde de silicium en oxydes.
(JA)アルカリ性洗剤に対する耐久性と、酸性洗剤に対する十分な耐久性と、を有する親水性皮膜を表面に有するステンレス鋼板からなる内壁を備えた食器洗い乾燥機の製造方法を提供する。本発明の食器洗い乾燥機の製造方法は、200℃以上の熱処理温度で、内壁の表面に酸化ジルコニウムおよび酸化ケイ素を含む第一層を形成する工程と、第一層の熱処理温度よりも低い熱処理温度で、第一層の表面にオキソ酸を含む第二層を形成する工程と、第二層を洗浄により除去し、内壁の表面に、酸化ジルコニウムと、酸化ケイ素と、を含有し、表面における水の接触角が20°以下である薄膜層を得る工程と、を有し、第一層が、酸化物換算にて80質量%以上の酸化ジルコニウムと、酸化物換算にて1質量%以上かつ20質量%以下の酸化ケイ素と、を含有する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)