WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2017056184) PLASMA EXPOSURE METHOD AND PLASMA EXPOSURE SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2017/056184    International Application No.:    PCT/JP2015/077496
Publication Date: 06.04.2017 International Filing Date: 29.09.2015
IPC:
B01J 19/08 (2006.01), H05H 1/24 (2006.01), H05H 1/26 (2006.01)
Applicants: FUJI MACHINE MFG. CO., LTD. [JP/JP]; 19 Chausuyama, Yamamachi, Chiryu-shi, Aichi 4728686 (JP)
Inventors: JINDO, Takahiro; (JP).
IKEDO, Toshiyuki; (JP).
NIWA, Akihiro; (JP)
Agent: NEXT INTERNATIONAL; 7th Floor, Daiei Building, 11-20, Nishiki 1-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600003 (JP)
Priority Data:
Title (EN) PLASMA EXPOSURE METHOD AND PLASMA EXPOSURE SYSTEM
(FR) PROCÉDÉ D'EXPOSITION À UN PLASMA ET SYSTÈME D'EXPOSITION À UN PLASMA
(JA) プラズマ照射方法、およびプラズマ照射システム
Abstract: front page image
(EN)This plasma exposure system 10 is provided with a spray nozzle 78 for spraying a heated inert gas, exposure nozzle 54 for plasma exposure, and a spray nozzle 84 for spraying a cooled inert gas. Furthermore, an article 90 to be treated, which has been heated by the heated gas, is exposed to plasma. Furthermore, the article to be treated that has been exposed to the plasma is cooled by spraying the cooled gas on the article to be treated. Thus, it is possible to efficiently carry out plasma treatment by plasma exposure of the high temperature article to be treated. In addition, after plasma treatment, the article to be treated is cooled rapidly; therefore, it is possible to appropriately prevent effects of oxidation and the like on the article to be treated in a high temperature state. Furthermore, by spraying the article to be treated with an inert gas, the surroundings of the article to be treated are filled with the inert gas and virtually no active gas is present; therefore, it is possible to suitably prevent the effects of active gasses on the article to be treated.
(FR)L'invention concerne un système d'exposition à un plasma (10), qui comprend une buse de pulvérisation (78) permettant de pulvériser un gaz inerte chauffé, une buse d'exposition (54) permettant une exposition au plasma, et une buse de pulvérisation (84) permettant de pulvériser un gaz inerte refroidi. En outre, un article (90) à traiter, qui a été chauffé par le gaz chauffé, est exposé au plasma. En outre, l'article à traiter qui a été exposé au plasma est refroidi en pulvérisant le gaz refroidi sur l'article à traiter. Ainsi, il est possible de réaliser efficacement un traitement au plasma par exposition au plasma de l'article à haute température à traiter. En outre, après le traitement au plasma, l'article à traiter est refroidi rapidement ; par conséquent, il est possible d'empêcher de manière appropriée des effets d'oxydation et analogues sur l'article à traiter dans un état de température élevée. En outre, en pulvérisant l'article à traiter avec un gaz inerte, l'environnement de l'article à traiter est rempli du gaz inerte et pratiquement aucun gaz actif n'est présent ; par conséquent, il est possible d'empêcher de manière appropriée les effets de gaz actifs sur l'article à traiter.
(JA)本発明のプラズマ照射システム10は、加熱された不活性ガスを噴出する噴出ノズル78と、プラズマを照射する照射ノズル54と、冷却された不活性ガスを噴出する噴出ノズル84とを備えている。そして、加熱ガスにより加熱された被処理物90にプラズマが照射される。そして、プラズマ照射された被処理物への冷却ガスの噴出により、被処理物が冷却される。これにより、高温の被処理物へのプラズマ照射により、効率的にプラズマ処理を行うことが可能となる。また、プラズマ処理終了後に、被処理物が素早く冷却されるため、高温状態の被処理物への酸化等の影響を適切に防止することが可能となる。さらに、被処理物への不活性ガスの噴出により、被処理物の周囲に不活性ガスが充満し、活性ガスが殆ど存在しないため、活性ガスによる被処理物への影響が好適に防止される。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)