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1. (WO2017055133) REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2017/055133    International Application No.:    PCT/EP2016/072246
Publication Date: 06.04.2017 International Filing Date: 20.09.2016
IPC:
G02B 5/08 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkoche Oberkochen (DE)
Inventors: WEIGL, Frank; (DE).
FORCHT, Konstantin; (DE).
FELDERMANN, Horst; (DE)
Agent: WERNER & TEN BRINK - PATENTANWÄLTE PARTGMBB; Mendelstrasse 11 48149 Münster (DE)
Priority Data:
10 2015 218 763.2 29.09.2015 DE
Title (DE) REFLEKTIVES OPTISCHES ELEMENT
(EN) REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT
(FR) ÉLÉMENT OPTIQUE RÉFLÉCHISSANT
Abstract: front page image
(DE)Insbesondere für die Lithographie oder die Mikrospkopie wird ein reflektives optisches Element vorgeschlagen, insbesondere für eine Betriebswellenlänge im DUV- oder VUV-Wellenlängenbereich, aufweisend ein Substrat, ein dielektrisches Schichtsystem und eine metallische Beschichtung zwischen dem Substrat und dem dielektrischen Schichtsystem, bei dem das dielektrische Schichtsystem (26) eine Schicht (L) aus einem Material mit einem niedrigeren Brechungsindex n1 bei der Betriebswellenlänge, eine Schicht (H) aus einem Material mit einem höheren Brechungsindex n2 bei der Betriebswellenlänge und eine Schicht (M) aus einem Material mit einem Brechungsindex n3 bei der Betriebswellenlänge aufweist mit n1
(EN)A reflective optical element is proposed, in particular for lithography or microscopy, in particular for an operating wavelength in the DUV or VUV wavelength range, comprising a substrate, a dielectric layer system and a metallic coating between the substrate and the dielectric layer system, in which the dielectric layer system (26) comprises a layer (L) made of a material with a lower refractive index n1 at the operating wavelength, a layer (H) made of a material with a higher refractive index n2 at the operating wavelength and a layer (M) made of a material with a refractive index n3 at the operating wavelength, with n1<n3<n2, wherein a layer (M) with a mid refractive index n3 is arranged at at least one transition from a layer (L) with the lower refractive index n1 to a layer (H) with the higher refractive index n2 or from a layer (H) with the higher refractive index n2 to a layer (L) with the lower refractive index n1 and wherein the dielectric layer system (26) has a four-layer sequence of (LMHM)m or (HMLM)m, where m equals the number of four-layer sequences in the dielectric layer system.
(FR)L'invention concerne un élément optique réfléchissant pour la lithographie ou la microscopie, en particulier pour une longueur d'ondes de fonctionnement dans une gamme de longueur d'onde DUV ou VUV, présentant un substrat, un système de couches diélectrique et un revêtement métallique entre le substrat et le système de couches diélectrique (26), le système de couches diélectrique (26) présentant une couche (L) constituée d'un matériau présentant un indice de réfraction inférieur n1 dans la gamme de longueur d'onde de fonctionnement, une couche (H) constituée d'un matériau présentant un indice de réfraction supérieur n2 dans la gamme de longueur d'onde de fonctionnement et une couche (M) constituée d'un matériau présentant un indice de réfraction n3 dans la gamme de longueur d'onde de fonctionnement avec le rapport suivant n1 < n3 < n2. Une couche (M) présentant un indice de réfraction intermédiaire n3 est disposée au niveau d'au moins une transition d'une couche (L) présentant l'indice de réfraction inférieur n1 vers une couche (H) présentant l'indice de réfraction supérieur n2 ou d'une couche (H) présentant l'indice de réfraction supérieur n2 vers une couche (L) présentant l'indice de réfraction inférieur n1. Le système de couches (26) diélectrique présente une succession de quatre couches (LMHM)m ou (HMLM)m, m correspondant au nombre de ces successions de quatre couches dans le système de couches diélectrique (26).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)