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1. (WO2017055106) METROLOGY METHOD, TARGET AND SUBSTRATE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2017/055106    International Application No.:    PCT/EP2016/071986
Publication Date: 06.04.2017 International Filing Date: 16.09.2016
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven (NL)
Inventors: SLOTBOOM, Daan, Maurits; (NL).
DEN BOEF, Arie, Jeffrey; (NL).
EBERT, Martin; (NL)
Agent: BROEKEN, Petrus; (NL)
Priority Data:
15187671.1 30.09.2015 EP
62/292,211 05.02.2016 US
Title (EN) METROLOGY METHOD, TARGET AND SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE MÉTROLOGIE, CIBLE ET SUBSTRAT
Abstract: front page image
(EN)A method of measuring a parameter of a lithographic process, the method including: illuminating a diffraction measurement target on a substrate with radiation, the measurement target including at least a first sub-target, at least a second sub-target and at least third sub-target, wherein the first, second and third sub-targets each include a periodic structure and wherein the first sub-target, second sub-target and third sub-target each have a different design and wherein at least two of the sub-targets are respectively designed for determination of a different lithographic process parameter; and detecting radiation scattered by the at least two sub-targets to obtain for that target a measurement representing the different parameters of the lithographic process.
(FR)L'invention concerne un procédé de mesure d'un paramètre d'un processus lithographique, le procédé consistant : à éclairer une cible de mesure de diffraction sur un substrat avec un rayonnement, la cible de mesure comprenant au moins une première sous-cible, au moins une deuxième sous-cible et au moins une troisième sous-cible, les première, deuxième et troisième sous-cibles comprenant chacune une structure périodique, la première sous-cible, la deuxième sous-cible et la troisième sous-cible ayant chacune une conception différente, et au moins deux des sous-cibles étant respectivement conçues pour déterminer un paramètre de processus lithographique différent ; à détecter un rayonnement diffusé par au moins deux sous-cibles pour obtenir, pour cette cible, une mesure représentant les différents paramètres du processus lithographique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)