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1. (WO2017054987) A LITHOGRAPHY APPARATUS, AND A METHOD OF MANUFACTURING A DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2017/054987    International Application No.:    PCT/EP2016/069794
Publication Date: 06.04.2017 International Filing Date: 22.08.2016
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven (NL)
Inventors: VAN DEN NIEUWELAAR, Norbertus, Josephus, Martinus; (NL).
BLANCO CARBALLO, Victor, Manuel; (NL).
MATTAAR, Thomas, Augustus; (NL).
MELMAN, Johannes, Cornelis, Paulus; (NL).
PIETERSE, Gerben; (NL).
VAN DE VEN, Johannes, Theodorus, Guillielmus, Maria; (NL).
VAN DE VEN, Jan-Piet; (NL).
VAN GILS, Petrus, Franciscus; (NL)
Agent: VERHOEVEN, Johannes; (NL)
Priority Data:
15187981.4 01.10.2015 EP
Title (EN) A LITHOGRAPHY APPARATUS, AND A METHOD OF MANUFACTURING A DEVICE
(FR) APPAREIL DE LITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF
Abstract: front page image
(EN)A route for a substrate support that supports a substrate in an immersion lithographic apparatus is calculated to satisfy the following constraints: after the edge of the substrate first contacts the immersion space, the substrate remains in contact with the immersion space until all target portions are exposed; exposures of target portions are performed whilst the substrate moves in a scan direction; and all movements of the substrate between exposures are, in a plane parallel to its upper surface, either curved or only in one of the scan directions or transverse directions. In order to reduce exposure defects at the edges of the substrate it is avoided to expose the immersion liquid to the ouside of the substrate (W) to be exposed. The transfer routes (R51) are designed to overly the wafer surface.
(FR)Selon l'invention, un trajet d'un support de substrat qui supporte un substrat dans un appareil lithographique à immersion est calculé de sorte à satisfaire les contraintes suivantes : après mise en contact d'abord du bord du substrat avec l'espace d'immersion, le substrat reste en contact avec l'espace d'immersion jusqu'à ce que toutes les parties cibles soient exposées ; des expositions de parties cibles sont effectuées tandis que le substrat se déplace dans une direction de balayage ; et tous les déplacements du substrat entre les expositions sont soit incurvés, soit uniquement dans l'une des directions de balayage ou des directions transversales dans un plan parallèle à sa surface supérieure. Afin de réduire des défauts d'exposition au niveau des bords du substrat, l'invention permet d'éviter d'exposer le liquide d'immersion à l'extérieur du substrat (W) à exposer. Les trajets de transfert (R51) sont conçus pour recouvrir la surface de tranche.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)