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1. (WO2017040623) THERMAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION COATING
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Pub. No.: WO/2017/040623 International Application No.: PCT/US2016/049647
Publication Date: 09.03.2017 International Filing Date: 31.08.2016
IPC:
C23C 16/24 (2006.01) ,C23C 16/455 (2006.01)
[IPC code unknown for C23C 16/24][IPC code unknown for C23C 16/455]
Applicants:
SILCOTEK CORP. [US/US]; 225 Penn Tech Drive Bellefonte, Pennsylvania 16823, US
Inventors:
VEZZA, Thomas F.; US
MATTZELA, James B.; US
BARONE, Gary A.; US
GROVE, William David; US
SILVIS, Paul H.; US
Agent:
OLTMANS, Andrew L.; US
WOLSTONCROFT, Bruce J.; US
O'BRIAN, K. Scott; US
MARCUS, David; US
LEPPO, Shawn K.; US
HAVERSTICK, Kraig L.; US
SMITH, David L.; US
Priority Data:
62/212,86801.09.2015US
Title (EN) THERMAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION COATING
(FR) REVÊTEMENT PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR THERMIQUE
Abstract:
(EN) Thermal chemical vapor deposition coated articles and thermal chemical vapor deposition processes are disclosed. The thermal chemical vapor deposition coated article includes a substrate and a coating on the substrate, the coating having multiple layers and being positioned on regions of the thermal chemical vapor deposition coated article that are unable to be concurrently coated through line-of-sight techniques. The coating has a concentration of particulate from gas phase nucleation, per 100 square micrometers, of fewer than 6 particles having a dimension of greater than 0.5 micrometers. The thermal chemical vapor deposition process includes introducing a multiple aliquot of a silicon-containing precursor to the enclosed vessel with intermediate gaseous soaking to produce the coated article.
(FR) L'invention concerne des articles revêtus par dépôt chimique en phase vapeur thermique et des processus de dépôt chimique en phase vapeur thermique. L'article revêtu par dépôt chimique en phase vapeur thermique comprend un substrat et un revêtement sur le substrat, le revêtement comportant plusieurs couches et étant placé sur des régions de l'article revêtu par dépôt chimique en phase vapeur thermique qu'il est impossible de revêtir simultanément par le biais de techniques de ligne de visée. Le revêtement possède une concentration en matière particulaire provenant d'une nucléation en phase gazeuse, par 100 micromètres carrés, inférieure à 6 particules possédant une dimension supérieure à 0,5 micromètre. Le processus de dépôt chimique en phase vapeur thermique comprend l'introduction d'une aliquote multiple d'un précurseur contenant du silicium dans le récipient clos avec un trempage gazeux intermédiaire pour produire l'article revêtu.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)