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1. (WO2017040415) PLASMA RF BIAS CANCELLATION SYSTEM
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Pub. No.: WO/2017/040415 International Application No.: PCT/US2016/049293
Publication Date: 09.03.2017 International Filing Date: 29.08.2016
IPC:
H01J 37/32 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32
Gas-filled discharge tubes
Applicants:
MKS INSTRUMENTS, INC. [US/US]; 2 Tech Drive, Suite 201 Andover, Massachusetts 01810, US
Inventors:
RADOMSKI, Aaron T.; US
LEE, Sang Won; KR
FISK, II, Larry J.; US
SMYKA, Jonathan W.; US
Agent:
LAFATA, Joseph M.; US
AMBROSE, John; US
AQUINO, Damian M.; US
BRENNAN, Michael P.; US
BROCK, Christopher M.; US
CASTELLANO, John A. III; US
CHANG, Alex C.; US
CHAPP, Jeffrey J.; US
CHO, David J.; US
CUTLER, Matthew L.; US
DALEY, Donald J.; US
DELASSUS, Gregory S.; US
DOERR, Michael P.; US
DOWDY, Stephanie L.; US
DRYSDALE, Nicholas S.; US
ELCHUK, Mark D.; US
ERJAVAC, Stanley M.; US
EUSEBI, Christopher A.; US
FADIPE, Abha T.; US
FALCOFF, Monte L.; US
FITZPATRICK, John W.; US
FORBIS, Glenn E.; US
FOSS, Stephen J.; US
FRANKLIN, Clarence C.; US
FRENTRUP, Mark A.; US
FULLER, Roland A., III; US
FUSSNER, Anthony G.; US
HEIST, Jason A.; US
HILTON, Michael E.; US
HOFFMAN, Erin G.; US
HOYT, Blair D.; US
KELLER, Paul A.; US
KESKAR, Hemant M.; US
KIM, Joshua; US
KOTSIS, Damian; US
KORAL, Elizabeth; US
LEE, Kisuk; US
LI, Zhen Jessica; US
LUCHSINGER, James B.; US
MACINTYRE, Timothy D.; US
MALINZAK, Michael; US
MANNING, Daisy; US
MARTIN, Timothy J.; US
MASSEY, Ryan W.; US
MEYER, Greg W.; US
MIERZWA, Kevin G.; US
MILLER, H. Keith; US
MOUSTAKAS, George D.; US
NABI, Tarik M.; US
NYE, Michael R.; US
ODELL, Elizabeth D.; US
OLSON, Stephen T.; US
PANKA, Brian G.; US
PYTEL, JR., Joseph J.; US
RAKERS, Leanne; US
ROBINSON, Douglas A.; US
SCHIVLEY, G. Gregory; US
SCHMIDT, Michael J.; US
SEITZ, Brent G.; US
SIMINSKI, Robert M.; US
SMITH, Corey E.; US
SMITH, Michael L.; US
SNYDER, Jeffrey L.; US
STOBBS, Gregory A.; US
STRAUSS, Ryan N.; US
SUTER, David L.; US
TAYLOR, Michael L.; US
TAYLOR, W.R. Duke; US
TEICH, Michael L.; US
TELSCHER, Rudolph A., Jr.; US
THOMAS, Michael J.; US
TUCKER, JR., David J.; US
UTYKANSKI, David P.; US
VARCO, Michael A.; US
WADE, Bryant E.; US
WALKER, Donald G.; US
WALSH, Joseph E., Jr.; US
WANGEROW, Steven D.; US
WARNER, Richard W.; US
WAXMAN, Andrew M.; US
WHEELOCK, Bryan K.; US
WIGGINS, Michael D.; US
WOODSIDE-WOJTALA, Jennifer; US
YACURA, Gary D.; US
ZALOBSKY, Michael D.; US
Priority Data:
15/236,66115.08.2016US
62/212,66101.09.2015US
Title (EN) PLASMA RF BIAS CANCELLATION SYSTEM
(FR) SYSTÈME D'ANNULATION DE POLARISATION RF DU PLASMA
Abstract:
(EN) An RF supply system in which a bias RF generator operates at a first frequency to provide a bias RF output signal and a source RF generator operates at a second frequency to provide a source RF output signal. The RF output power signals are applied to a load, such as a plasma chamber. The source RF generator detects a triggering event. In response to the triggering event, the source RF generator initiates adding frequency offsets to the source RF output signal in order to respond to impedance fluctuations in the plasma chamber that occur with respect to the triggering event. The triggering event detected by the source RF generator can be received from the bias RF generator in the form of a control signal that varies in accordance with the bias RF output signal.
(FR) L'invention concerne un système d'alimentation RF dans lequel un générateur RF de polarisation fonctionne à une première fréquence pour émettre un signal de sortie RF de polarisation, et un générateur RF source qui fonctionne à une seconde fréquence pour émettre un signal de sortie RF source. Les signaux d'alimentation de sortie RF sont appliqués à une charge, telle qu'une chambre à plasma. Le générateur RF source détecte un événement de déclenchement. En réponse à l'événement de déclenchement, le générateur RF source déclenche l'ajout de décalages de fréquence au signal de sortie RF source afin de répondre à des fluctuations d'impédance dans la chambre à plasma qui se produisent par rapport à l'événement de déclenchement. L'événement de déclenchement détecté par le générateur RF source peut être reçu du générateur RF de polarisation sous la forme d'un signal de commande qui varie en fonction du signal de sortie RF de polarisation.
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