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1. (WO2017040351) SELF DIRECTED METROLOGY AND PATTERN CLASSIFICATION
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Pub. No.: WO/2017/040351 International Application No.: PCT/US2016/049157
Publication Date: 09.03.2017 International Filing Date: 27.08.2016
IPC:
H01L 21/66 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21
Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
66
Testing or measuring during manufacture or treatment
Applicants:
KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Inventors:
PARK, Allen; US
GUPTA, Ajay; US
LAUBER, Jan; US
Agent:
MCANDREWS, Kevin; US
MORRIS, Elizabeth M.N.; US
Priority Data:
15/247,77425.08.2016US
62/211,37528.08.2015US
Title (EN) SELF DIRECTED METROLOGY AND PATTERN CLASSIFICATION
(FR) MÉTROLOGIE ET CLASSIFICATION DE MOTIFS AUTOGÉRÉES
Abstract:
(EN) Methods and systems for determining parameter(s) of a process to be performed on a specimen are provided. One system includes one or more computer subsystems configured for determining an area of a defect detected on a specimen. The computer subsystem(s) are also configured for correlating the area of the defect with information for a design for the specimen and determining a spatial relationship between the area of the defect and the information for the design based on results of the correlating. In addition, the computer subsystem(s) are configured for automatically generating a region of interest to be measured during a process performed for the specimen with a measurement subsystem based on the spatial relationship.
(FR) L'invention concerne des procédés et des systèmes pour déterminer un ou plusieurs paramètres d'un processus devant être effectué sur un échantillon. Un système comprend un ou plusieurs sous-systèmes d'ordinateur configurés pour déterminer une zone d'un défaut détecté sur un échantillon. Le ou les sous-systèmes d'ordinateur sont également configurés pour corréler la zone du défaut à des informations de conception de l'échantillon, et déterminer une relation spatiale entre la zone du défaut et les informations de conception sur la base des résultats de la corrélation. En outre, le ou les sous-systèmes d'ordinateur sont configurés pour générer automatiquement, sur la base de la relation spatiale, une région d'intérêt devant être mesurée pendant un processus effectué pour l'échantillon à l'aide d'un sous-système de mesure.
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Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)