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1. (WO2017038619) RESIN COMPOSITION
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Pub. No.: WO/2017/038619 International Application No.: PCT/JP2016/074807
Publication Date: 09.03.2017 International Filing Date: 25.08.2016
IPC:
C08L 101/00 (2006.01) ,C08G 59/62 (2006.01) ,C08K 5/00 (2006.01) ,C08L 71/10 (2006.01) ,G03F 7/023 (2006.01)
[IPC code unknown for C08L 101][IPC code unknown for C08G 59/62][IPC code unknown for C08K 5][IPC code unknown for C08L 71/10][IPC code unknown for G03F 7/023]
Applicants:
日本ゼオン株式会社 ZEON CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目6番2号 6-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008246, JP
Inventors:
堤 隆志 TSUTSUMI, Takashi; JP
齋藤 隆之 SAITO, Takayuki; JP
藤村 誠 FUJIMURA, Makoto; JP
Agent:
とこしえ特許業務法人 TOKOSHIE PATENT FIRM; 東京都新宿区西新宿7丁目22番27号 西新宿KNビル Nishishinjuku KN Bldg., 22-27, Nishishinjuku 7-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023, JP
Priority Data:
2015-17054531.08.2015JP
Title (EN) RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE
(JA) 樹脂組成物
Abstract:
(EN) Provided is a resin composition containing a binder resin (A), a phenoxy resin (B) having a hydroxyl equivalent not lower than 300, and a cross-linking agent (C). The resin composition according to the present invention preferably further contains a photoacid generator (D), and the photoacid generator (D) is more preferably a quinone diazide compound.
(FR) L'invention concerne une composition de résine contenant une résine liante (A), une résine phénoxy (B) ayant un équivalent hydroxyle qui n'est pas inférieur à 300, et un agent de réticulation (C). La composition de résine selon la présente invention contient en outre de préférence un générateur de photoacides (D), lequel générateur de photoacides (D) est plus préférablement un composé quinone diazide.
(JA) バインダー樹脂(A)、水酸基当量が300以上であるフェノキシ樹脂(B)、及び架橋剤(C)を含有する樹脂組成物を提供する。本発明の樹脂組成物は、光酸発生剤(D)をさらに含有することが好ましく、光酸発生剤(D)が、キノンジアジド化合物であることがより好ましい。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)