Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persist, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2017037785) SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2017/037785 International Application No.: PCT/JP2015/074464
Publication Date: 09.03.2017 International Filing Date: 28.08.2015
IPC:
H01L 21/673 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21
Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67
Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components
673
using specially adapted carriers
Applicants:
株式会社日立国際電気 HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. [JP/JP]; 東京都港区西新橋二丁目15番12号 15-12, Nishi-shimbashi 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1058039, JP
Inventors:
伊藤 剛 ITO, Takeshi; JP
Priority Data:
Title (EN) SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF À SEMI-CONDUCTEUR
(JA) 基板処理装置および半導体装置の製造方法
Abstract:
(EN) [Problem] To provide a technology whereby the footprint of an apparatus can be reduced. [Solution] The present invention is provided with: a storing chamber that is provided with placing shelves for placing storing containers thereon, said storing containers storing substrates therein; a transfer mechanism, which is disposed on the ceiling portion of the storing chamber, and which transfers the storing containers by holding upper portions of the storing containers; and a port for carrying in and carrying out the storing containers with respect to the storing chamber. The port has: an adjustment plate fixed on the base table; a stage for placing the storing containers thereon; and a horizontally driving mechanism, which is disposed above the adjustment plate, and is connected to a lower surface rear portion of the stage via a connecting member, said horizontally driving mechanism horizontally moving the stage. The horizontally driving mechanism is configured from: a pair of guide sections, which assist the horizontal movement of the stage, and in which one end of one guide section and one end of the other guide section are connected to each other; and a first drive unit, which is disposed between the guide sections, and which presses the connecting portion between the guide sections.
(FR) Le problème décrit par la présente invention vise à élaborer une technologie par laquelle l'empreinte d'un appareil puisse être réduite. La solution décrite dans la présente invention comprend : une chambre de stockage qui est pourvue d'étagères de placement pour placer des contenants de stockage dessus, lesdits contenants de stockage stockant des substrats en leur sein ; un mécanisme de transfert, qui est disposé sur la partie plafond de la chambre de stockage, et qui transfère les contenants de stockage par maintien de parties supérieures des contenants de stockage ; et un orifice pour le transport entrant et sortant des contenants de stockage par rapport à la chambre de stockage. L'orifice comporte : une plaque de réglage fixée sur une table de base ; un plateau pour placer les contenants de stockage dessus ; et un mécanisme d'entraînement horizontal, qui est disposé au-dessus de la plaque de réglage, et est relié à une partie arrière de la surface inférieure du plateau par l'intermédiaire d'un élément de raccordement, ledit mécanisme d'entraînement horizontal déplaçant horizontalement le plateau. Le mécanisme d'entraînement horizontal est conçu à partir : d'une paire de sections de guidage, qui aident le mouvement horizontal du plateau, et dans lesquelles une extrémité d'une section de guidage et une extrémité de l'autre section de guidage sont reliées l'une à l'autre ; et d'une première unité d'entraînement, qui est disposée entre les sections de guidage, et qui appuie sur la partie de raccordement entre les sections de guidage.
(JA) 課題 装置のフットプリントを低減させることが可能な技術を提供する 解決手段 基板を収容する収納容器を載置する載置棚を備える収容室と、収容室の天井部に設置され、収納容器の上部を把持して搬送する搬送機構と、収容室に対して収納容器を搬入出するポートと、を備え、ポートは、基台上に固定された調整板と、収納容器を載置するステージと、調整板の上部に設置され、ステージの下面後方と連結部材を介して連結され、ステージを水平移動させる水平駆動機構と、を有し、水平駆動機構は、ステージの水平移動を補助し、一端が互いに連結された一対のガイド部と、ガイド部の間に設置され、ガイド部の連結部分を押圧する第1駆動部と、により構成される。
front page image
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)