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1. (WO2017036784) ILLUMINATION SYSTEM FOR EUV PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
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Pub. No.: WO/2017/036784 International Application No.: PCT/EP2016/069394
Publication Date: 09.03.2017 International Filing Date: 16.08.2016
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Exposure; Apparatus therefor
Applicants:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Str. 2 73447 Oberkochen, DE
Inventors:
PETRI, Christoph; DE
RUNDE, Daniel; DE
Agent:
PATENTANWÄLTE RUFF, WILHELM, BEIER, DAUSTER & PARTNER MBB; Kronenstraße 30 70174 Stuttgart, DE
Priority Data:
10 2015 216 528.028.08.2015DE
Title (EN) ILLUMINATION SYSTEM FOR EUV PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE POUR APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION D'EUV
Abstract:
(EN) An illumination system (ILL) for an EUV projection exposure apparatus (WSC) is designed for receiving EUV radiation (LR) of an EUV radiation source (LS) and for shaping illumination radiation (ILR) from at least one portion of the received EUV radiation, wherein the illumination radiation is directed into an illumination field in an exit plane (ES) of the illumination system during exposure operation, wherein the EUV radiation source is arranged in a source module (SM) separate from the illumination system, said source module generating a secondary radiation source (SLS) at a source position (SP) in an entrance plane (IS) of the illumination system. For determining an alignment state of the secondary radiation source in relation to the illumination system, the illumination system comprises an alignment state determining system (ADS), wherein the alignment state determining system comprises an alignment detector (AD) configured to receive a portion of the EUV radiation emerging from the secondary radiation source and to generate therefrom an alignment detector signal (AS) representative of the alignment state. Furthermore, the illumination system comprises a mirror module (MM) comprising a used mirror element (UM) and an alignment mirror element (AM), wherein during exposure operation the used mirror element contributes to the shaping of the illumination radiation incident on the illumination field and the alignment mirror element reflects a portion of the EUV radiation of the secondary radiation source in the direction of the alignment detector. The mirror module is embodied as a structurally exchangeable mirror module, and an optical alignment auxiliary component (AAC) is assigned to the illumination system, wherein with the aid of the optical alignment auxiliary component an alignment auxiliary signal (AAS, AAS') is generatable which allows a checking of the alignment state of the secondary radiation source or of an alignment state of an alignment mirror element after an exchange of the mirror module.
(FR) La présente invention a trait à un système d'éclairage (ILL) pour un appareil d'exposition par projection d'EUV (WSC), qui est conçu pour recevoir un rayonnement EUV (LR) d'une source de rayonnement EUV (LS) et pour mettre en forme un rayonnement d'éclairage (ILR) à partir d'au moins une partie du rayonnement EUV reçu, le rayonnement d'éclairage étant dirigé dans un champ d'éclairage dans un plan de sortie (ES) du système d'éclairage pendant l'opération d'exposition, la source de rayonnement EUV étant disposée dans un module de source (SM) séparé du système d'éclairage, ledit module de source générant une source de rayonnement secondaire (SLS) à une position de source (SP) dans un plan d'entrée (IS) du système d'éclairage. Pour déterminer un état d'alignement de la source de rayonnement secondaire par rapport au système d'éclairage, ce système d'éclairage comprend un système de détermination d'état d'alignement (ADS), le système de détermination d'état d'alignement comportant un détecteur d'alignement (AD) prévu pour recevoir une partie du rayonnement EUV provenant de la source de rayonnement secondaire et pour générer à partir de cette partie un signal de détecteur d'alignement (AS) représentatif de l'état d'alignement. En outre, le système d'éclairage inclut un module à miroirs (MM) comprenant un élément miroir utilisé (UM) et un élément miroir d'alignement (AM), l'élément miroir utilisé contribuant, au cours de l'opération d'exposition, à la mise en forme du rayonnement d'éclairage qui arrive sur le champ d'éclairage, et l'élément miroir d'alignement réfléchissant une partie du rayonnement EUV de la source de rayonnement secondaire dans la direction du détecteur d'alignement. Le module à miroirs est incorporé sous la forme d'un module à miroirs échangeable sur le plan structural, et un composant auxiliaire d'alignement optique (AAC) est attribué au système d'éclairage, un signal auxiliaire d'alignement (AAS, AAS') pouvant être généré à l'aide du composant auxiliaire d'alignement optique et permettant une vérification de l'état d'alignement de la source de rayonnement secondaire ou d'un état d'alignement d'un élément miroir d'alignement après un échange du module à miroirs.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)