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1. (WO2017032706) SENSOR ARRANGEMENT FOR A LITHOGRAPHY SYSTEM, LITHOGRAPHY SYSTEM, AND METHOD FOR OPERATING A LITHOGRAPHY SYSTEM
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Pub. No.: WO/2017/032706 International Application No.: PCT/EP2016/069688
Publication Date: 02.03.2017 International Filing Date: 19.08.2016
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 26/08 (2006.01) ,G01D 5/24 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Exposure; Apparatus therefor
G PHYSICS
02
OPTICS
B
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
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Optical devices or arrangements using movable or deformable optical elements for controlling the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light, e.g. switching, gating, modulating
08
for controlling the direction of light
G PHYSICS
01
MEASURING; TESTING
D
MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED BY A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; TRANSFERRING OR TRANSDUCING ARRANGEMENTS NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
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using electric or magnetic means
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influencing the magnitude of a current or voltage
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by varying capacitance
Applicants:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Inventors:
BIHR, Ulrich; DE
HOLZ, Markus; DE
HORN, Jan; DE
Agent:
HORN KLEIMANN WAITZHOFER PATENTANWÄLTE PARTG MBB; Ganghoferstr. 29a 80339 München, DE
Priority Data:
10 2015 216 438.127.08.2015DE
Title (EN) SENSOR ARRANGEMENT FOR A LITHOGRAPHY SYSTEM, LITHOGRAPHY SYSTEM, AND METHOD FOR OPERATING A LITHOGRAPHY SYSTEM
(FR) ENSEMBLE DE CAPTEURS POUR UNE INSTALLATION DE LITHOGRAPHIE, INSTALLATION DE LITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ DE FONCTIONNEMENT D’UNE INSTALLATION DE LITHOGRAPHIE
(DE) SENSORANORDNUNG FÜR EINE LITHOGRAPHIEANLAGE, LITHOGRAPHIEANLAGE UND VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINER LITHOGRAPHIEANLAGE
Abstract:
(EN) A sensor arrangement (1) for detecting a position of an optical element in a lithography system, wherein the sensor arrangement (1) comprises: a first capacitive sensor device (2) which has a position-dependent variable first sensor capacity (CCS1) detectable with the aid of a first excitation signal (Vex1); a second capacitive sensor device (3) which has a position-dependent variable second sensor capacity (CCS2) detectable with the aid of a second excitation signal (Vex2); and comprising a control device (8) which is configured to generate the first and the second excitation signal (Vex1, Vex2) in such a way that charges, present at a parasitic capacity which can be associated with the first sensor device (2), compensate at least partially using charges, present at a parasitic capacity which can be associated with the second sensor device (3), via a signal path outside of the first and/or the second excitation signal path. The sensor arrangement can be favorably used in a lithography system and enables a high read-out and actuation frequency for sensor elements and actuators.
(FR) L'invention concerne un ensemble de capteurs (1) pour détecter une position d’un élément optique dans une installation de lithographie. L’ensemble de capteurs (1) comprend : un premier dispositif de capteur capacitif (2) qui a une première capacité de capteur modifiable en fonction de la position (CCS1) qui peut être détectée à l’aide d’un premier signal d’excitation (Vex1) ; un deuxième dispositif de capteur capacitif (3) qui a une deuxième capacité de capteur modifiable en fonction de la position (CCS2) qui peut être détectée à l’aide d’un deuxième signal d’excitation (Vex2) ; et un dispositif de commande (8) qui est agencé pour générer le premier et le deuxième signal d’excitation (Vex1, Vex2) de manière que des charges, qui sont présentes sur une capacité parasite pouvant être associée au premier dispositif de capteur (2), sont compensées au moins en partie avec des charges, qui sont présentes sur une capacité parasite pouvant être associée au second dispositif de capteur (3), par le biais d’un chemin de signal en dehors du premier et/ou du deuxième chemin de signal d’excitation. Le dispositif de capteur peut être mis en œuvre avantageusement dans une installation de lithographie et permet une sélection élevée et une fréquence de commande élevée pour des éléments de capteur et des actionneurs.
(DE) Eine Sensoranordnung (1) zum Erfassen einer Lage eines optischen Elements in einer Lithographieanlage, wobei die Sensoranordnung (1) umfasst: eine erste kapazitive Sensoreinrichtung (2), welche eine lageabhänge veränderbare erste Sensorkapazität (CCS1) hat, welche mit Hilfe eines ersten Anregungssignals (Vex1) erfassbar ist; eine zweite kapazitive Sensoreinrichtung (3), welche eine lageabhänge veränderbare zweite Sensorkapazität (CCS2) hat,welche mit Hilfe eineszweiten Anregungssignals (Vex2) erfassbar ist; und mit einer Steuereinrichtung (8), welche eingerichtet ist, das erste und das zweite Anregungssignal (Vex1, Vex2) derart zu erzeugen, dass sich Ladungen, welche an einer der ersten Sensoreinrichtung (2) zuordenbaren parasitären Kapazität vorliegen, mit Ladungen, welche an einer der der zweiten Sensoreinrichtung (3) zuordenbaren parasitären Kapazität vorliegen, über einen Signalpfad außerhalb des ersten und/oder des zweiten Anregungssignalpfads wenigstens teilweise kompensieren. Die Sensoranordnung kann günstig in einer Lithographieanlage eingesetzt werden und ermöglicht eine hohe Auslese und Ansteuerungsfrequenz für Sensorelemente und Aktoren.
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Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)