WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Options
Query Language
Stem
Sort by:
List Length
Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persist, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2017016903) INSPECTION APPARATUS, INSPECTION METHOD AND MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.: WO/2017/016903 International Application No.: PCT/EP2016/066913
Publication Date: 02.02.2017 International Filing Date: 15.07.2016
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20
Exposure; Apparatus therefor
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.[NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventors: DEN BOEF, Arie; NL
Agent: BROEKEN, Petrus; NL
Priority Data:
15179154.830.07.2015EP
Title (EN) INSPECTION APPARATUS, INSPECTION METHOD AND MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL D'INSPECTION, PROCÉDÉ D'INSPECTION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abstract:
(EN) An inspection apparatus is provided for measuring properties of a non-periodic product structure (500'). A radiation source (402) and an image detector (408) provide a spot (S) of radiation on the product structure. The radiation is spatially coherent and has a wavelength less than 50 nm, for example in the range 12-16 nm or 1-2 nm. The image detector is arranged to capture at least one diffraction pattern (606) formed by said radiation after scattering by the product structure. A processor receives the captured pattern and also reference data (612) describing assumed structural features of the product structure. The process uses coherent diffraction imaging (614) to calculate a 3-D image of the structure using the captured diffraction pattern(s) and the reference data. The coherent diffraction imaging may be for example ankylography or ptychography. The calculated image deviates from the nominal structure, and reveals properties such as CD, overlay.
(FR) L'invention concerne un appareil d'inspection permettant de mesurer les propriétés d'une structure de produit non-périodique (500'). Une source de rayonnement (402) et un détecteur d'image (408) fournissent un point (S) de rayonnement sur la structure de produit. Le rayonnement est spatialement cohérent et a une longueur d'onde inférieure à 50 nm, par exemple dans la plage de 12 à 16 nm ou de 1 à 2 nm. Le détecteur d'image est conçu pour capturer au moins un motif de diffraction (606) formé par ledit rayonnement après diffusion par la structure de produit. Un processeur reçoit le motif capturé ainsi que des données de référence (612) décrivant des caractéristiques structurelles supposées de la structure de produit. Le procédé fait appel à une imagerie par diffraction cohérente (614) pour calculer une image 3D de la structure à l'aide du (des) motif(s) de diffraction capturé(s) et des données de référence. L'imagerie par diffraction cohérente peut être, par exemple, l'ankylographie ou la ptychographie. L'image calculée s'écarte de la structure nominale et révèle des propriétés telles que la dimension critique (CD) ou la superposition.
front page image
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)