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1. (WO2016194190) CONTROL DEVICE FOR HEAT-PUMP-USING SYSTEM, AND HEAT-PUMP-USING SYSTEM PROVIDED WITH SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2016/194190 International Application No.: PCT/JP2015/066159
Publication Date: 08.12.2016 International Filing Date: 04.06.2015
IPC:
F24F 11/02 (2006.01) ,F25B 1/00 (2006.01) ,F25B 49/02 (2006.01)
F MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
24
HEATING; RANGES; VENTILATING
F
AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
11
Control or safety systems or apparatus
02
Arrangement or mounting of control or safety devices
F MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
25
REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION OR SOLIDIFICATION OF GASES
B
REFRIGERATION MACHINES, PLANTS, OR SYSTEMS; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS
1
Compression machines, plant or systems with non-reversible cycle
F MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
25
REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION OR SOLIDIFICATION OF GASES
B
REFRIGERATION MACHINES, PLANTS, OR SYSTEMS; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS
49
Arrangement or mounting of control or safety devices
02
for compression type machines, plant or systems
Applicants:
三菱電機株式会社 MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内二丁目7番3号 7-3, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008310, JP
Inventors:
中井 孝洋 NAKAI, Takahiro; JP
藤塚 正史 FUJITSUKA, Masashi; JP
宇野 義隆 UNO, Yoshitaka; JP
山本 隆也 YAMAMOTO, Takaya; JP
Agent:
特許業務法人きさ特許商標事務所 KISA PATENT & TRADEMARK FIRM; 東京都港区虎ノ門二丁目10番1号 虎ノ門ツインビルディング東棟8階 East 8F, TORANOMON TWIN BLDG., 10-1 Toranomon 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001, JP
Priority Data:
Title (EN) CONTROL DEVICE FOR HEAT-PUMP-USING SYSTEM, AND HEAT-PUMP-USING SYSTEM PROVIDED WITH SAME
(FR) DISPOSITIF DE RÉGULATION POUR SYSTÈME À POMPE À CHALEUR, ET SYSTÈME À POMPE À CHALEUR MUNI DUDIT DISPOSITIF
(JA) ヒートポンプ利用システムの制御装置及びそれを備えたヒートポンプ利用システム
Abstract:
(EN) A system control device 4 is provided with: a room temperature control unit 18 which generates a heat quantity command on the basis of the room temperature and a set room temperature; a frequency command generation unit 19 which generates a frequency command on the basis of the heat quantity command; a circulation-temperature-command generation unit 21 which generates a circulation temperature command on the basis of the heat quantity command; a circulation temperature control unit 21 which, on the basis of the circulation temperature and the circulation temperature command, generates a rotational frequency command using feedback control in which at least a proportionality coefficient is used; and a correction coefficient generation unit 22 which generates a correction coefficient on the basis of the circulation flow rate of a second heat medium and a preset circulation-flow-rate reference value. The circulation temperature control unit 21 calculates the proportionality coefficient by multiplying the correction coefficient and a preset proportionality-coefficient reference value. The correction coefficient generation unit 22 generates the correction coefficient such that, when the circulation flow rate increases higher than the circulation-flow-rate reference value, the proportionality coefficient increases higher than the proportionality-coefficient reference value, and, when the circulation flow rate reduces lower than the circulation-flow-rate reference value, the proportionality coefficient reduces lower than the proportionality-coefficient reference value.
(FR) L'invention concerne un dispositif de régulation de système (4) comportant : une unité de régulation de la température ambiante (18) servant à générer une commande de quantité de chaleur sur la base de la température ambiante et d'une température ambiante de consigne ; une unité de génération de commande de fréquence (19) servant à générer une commande de fréquence sur la base de la commande de quantité de chaleur ; une unité de génération de commande de température de circulation (20) servant à générer une commande de température de circulation sur la base de la commande de quantité de chaleur ; une unité de régulation de la température de circulation (21) servant à générer, sur la base de la température de circulation et de la commande de température de circulation, une commande de fréquence de rotation à l'aide d'une régulation à rétroaction dans laquelle au moins un coefficient de proportionnalité est utilisé ; et une unité de génération de coefficient de correction (22) servant à générer un coefficient de correction sur la base du débit de circulation d'un second agent caloporteur et d'une valeur de référence prédéfinie du débit de circulation. L'unité de régulation de la température de circulation (21) calcule le coefficient de proportionnalité en multipliant le coefficient de correction par une valeur de référence prédéfinie du coefficient de proportionnalité. L'unité de génération de coefficient de correction (22) génère le coefficient de correction de sorte que, lorsque le débit de circulation devient plus élevée que la valeur de référence du débit de circulation, le coefficient de proportionnalité devienne plus élevé que la valeur de référence du coefficient de proportionnalité, et, lorsque le débit de circulation devient inférieur à la valeur de référence du débit de circulation, le coefficient de proportionnalité devienne inférieur à la valeur de référence du coefficient de proportionnalité.
(JA)  システム制御装置4は、室温と設定室温とに基づいて熱量指令を生成する室温制御部18と、熱量指令に基づいて周波数指令を生成する周波数指令生成部19と、熱量指令に基づいて循環温度指令を生成する循環温度指令生成部21と、循環温度及び循環温度指令に基づいて、少なくとも比例係数を用いたフィードバック制御により回転数指令を生成する循環温度制御部21と、第2熱媒体の循環流量と予め設定された循環流量基準値とに基づいて補正係数を生成する補正係数生成部22と、を備え、循環温度制御部21は、予め設定された比例係数基準値と補正係数とを乗じて比例係数を算出するものであり、補正係数生成部22は、循環流量が循環流量基準値よりも増加した場合には比例係数が比例係数基準値よりも増加し、循環流量が循環流量基準値よりも減少した場合には比例係数が比例係数基準値よりも減少するように補正係数を生成するものである。
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European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)