WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2016187481) MEMBRANE BONDING WITH PHOTORESIST
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/187481    International Application No.:    PCT/US2016/033372
Publication Date: 24.11.2016 International Filing Date: 19.05.2016
IPC:
B06B 1/02 (2006.01), H04R 17/00 (2006.01), H04R 31/00 (2006.01), G01H 11/06 (2006.01), G01S 7/521 (2006.01)
Applicants: UBEAM INC. [US/US]; 2210 Main Street Santa Monica, California 90405 (US)
Inventors: JOYCE, Andrew; (US).
TAFFLER, Sean; (US).
REYNOLDS, Paul; (US).
NEMETH, Nicolas Lavada; (US).
ELHADAD, Adam Stephen; (US).
FARAJI, Boozarjomehr; (US)
Agent: KAMLAY, Aaron; (US)
Priority Data:
62/164,108 20.05.2015 US
15/077,734 22.03.2016 US
15/154,900 13.05.2016 US
Title (EN) MEMBRANE BONDING WITH PHOTORESIST
(FR) LIAISON MEMBRANAIRE À RÉSINE PHOTOSENSIBLE
Abstract: front page image
(EN)Systems and techniques are provided for membrane bonding. A photoresist may be applied to an ultrasonic device. A portion of the photoresist may be removed. A bonding agent may be applied a portion of the photoresist that is not removed. A membrane may be placed on the ultrasonic device such that the membrane is in contact with the ultrasonic device through the bonding agent and the photoresist. The membrane and the ultrasonic device may be placed in between a first flat plate and a second flat plate, such that the second flat plate rests on top of the membrane. Light pressure may be applied to the membrane. The light pressure may be applied by one or more of the weight of the second flat plate and a pressure providing device applying pressure to either or both of the first flat plate and the second flat plate.
(FR)La présente invention concerne des systèmes et des techniques pour liaison membranaire. Une résine photosensible peut être appliquée à un dispositif à ultrasons. Une partie de la résine photosensible peut être retirée. Un agent de liaison peut être appliqué une partie de la résine photosensible qui n'est pas retirée. Une membrane peut être placée sur le dispositif à ultrasons de telle sorte que la membrane est en contact avec le dispositif à ultrasons par l'intermédiaire de l'agent de liaison et de la résine photosensible. La membrane et le dispositif à ultrasons peuvent être placés entre une première plaque plate et une seconde plaque plate, de telle sorte que la seconde plaque plate repose sur la membrane. Une légère pression peut être appliquée à la membrane. La légère pression peut être appliquée par le poids de la seconde plaque plate et/ou un dispositif de fourniture de pression appliquant une pression à la première plaque plate et/ou la seconde plaque plate.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)