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1. (WO2016186364) LIGHT DETECTION DEVICE
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Pub. No.: WO/2016/186364 International Application No.: PCT/KR2016/004900
Publication Date: 24.11.2016 International Filing Date: 11.05.2016
IPC:
H01L 31/08 (2006.01) ,H01L 31/09 (2006.01) ,H01L 31/102 (2006.01) ,H01L 31/0288 (2006.01) ,H01L 31/18 (2006.01)
Applicants: SEOUL VIOSYS CO., LTD.[KR/KR]; 65-16, Sandan-ro 163beon-gil, Danwon-gu, Ansan-si, Gyeonggi-do 15429, KR
Inventors: PARK, Ki Yon; KR
HAN, Gun Woo; KR
LEE, Choong Min; KR
LEE, Soo Hyun; KR
Agent: AIP PATENT & LAW FIRM; 30-1, Teheran-ro 14-gil, Gangnam-gu Seoul 06239, KR
Priority Data:
10-2015-006899018.05.2015KR
10-2015-010237020.07.2015KR
Title (EN) LIGHT DETECTION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE DÉTECTION DE LUMIÈRE
Abstract: front page image
(EN) Disclosed herein is a light detection device. The light detection device includes a base layer, an electrostatic discharge (ESD) prevention layer disposed on the base layer and including an undoped nitride-based semiconductor, a light absorption layer disposed on the ESD prevention layer, a Schottky junction layer disposed on the light absorption layer, and a first electrode and a second electrode electrically connected to the Schottky junction layer and the base layer, respectively, wherein the ESD prevention layer has a lower average n-type dopant concentration than the base layer.
(FR) L'invention concerne un dispositif de détection de lumière. Le dispositif de détection de lumière comprend une couche de base, une couche de prévention des décharges électrostatiques (ESD) disposée sur la couche de base et comprenant un semi-conducteur à base de nitrure non dopé, une couche d'absorption de lumière disposée sur la couche de prévention des ESD, une couche de jonction Schottky disposée sur la couche d'absorption de lumière, et une première électrode et une seconde électrode électriquement connectées à la couche de jonction Schottky et à la couche de base, respectivement, la couche de prévention des ESD ayant une concentration moyenne en dopant de type n inférieure à celle de la couche de base.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)