WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2016184560) METHOD OF OPERATING A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/184560    International Application No.:    PCT/EP2016/000802
Publication Date: 24.11.2016 International Filing Date: 14.05.2016
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G02B 26/08 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Str. 2 73447 Oberkochen (DE)
Inventors: ZIMMERMANN, Jörg; (DE).
NEUMANN, Jens, Timo; (DE).
SCHLESENER, Frank; (DE).
MÜLLER, Ralf; (DE)
Agent: SCHWANHÄUSSER, Gernot; Ostertag & Partner, Patentanwälte mbB Epplestr. 14 70597 Stuttgart (DE)
Priority Data:
10 2015 209 268.2 21.05.2015 DE
Title (EN) METHOD OF OPERATING A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE FONCTIONNEMENT D'APPAREIL DE PROJECTION MICROLITOGRAPHIQUE
Abstract: front page image
(EN)A method of operating a microlithographic projection apparatus comprises the step of providing a mask (16), an illumination system (12) and a projection objective (20) configured to form an image of an object field (14), which is illuminated on the mask (16) in a mask plane, on an image field positioned on a light sensitive surface (22). Edge placement errors are determined at different field points in the image field. The mask (16) is then illuminated with projection light having an improved field dependency of the angular irradiance distribution. The angular irradiance distribution according to the improved field dependency varies over the object field (14) in such a way that the edge placement errors determined in step b) are reduced at the different field points.
(FR)L'invention concerne un procédé de fonctionnement d'un appareil de projection microlithographique, qui comprend l'étape consistant à fournir un masque (16), un système d'éclairage (12) et un objectif de projection (20) configuré pour former une image d'un champ d'objet (14), qui est éclairé sur le masque (16) dans un plan de masque, sur un champ d'image positionné sur une surface sensible à la lumière (22). Des erreurs de placement de bord sont déterminées au niveau de différents points de champ dans le champ d'image. Le masque (16) est alors éclairé avec la lumière de projection ayant une dépendance de champ améliorée de la distribution d'éclairement énergétique angulaire. La distribution d'éclairement énergétique angulaire, selon la dépendance de champ améliorée, varie sur le champ d'objet (14) de telle sorte que des erreurs de placement de bord déterminées dans l'étape b) sont réduites au niveau des différents points de champ.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)