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1. (WO2016182864) CUTTING ELEMENTS HAVING ACCELERATED LEACHING RATES AND METHODS OF MAKING THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/182864    International Application No.:    PCT/US2016/031083
Publication Date: 17.11.2016 International Filing Date: 06.05.2016
IPC:
B22F 3/15 (2006.01), B23P 15/28 (2006.01), C22C 29/02 (2006.01), C22C 29/08 (2006.01), E21B 10/46 (2006.01), B23B 27/14 (2006.01), B23B 27/20 (2006.01), B24D 3/08 (2006.01), C22C 11/00 (2006.01), C22C 12/00 (2006.01), B22F 3/24 (2006.01), B22F 5/00 (2006.01), C22C 26/00 (2006.01)
Applicants: DIAMOND INNOVATIONS, INC. [US/US]; 6325 Huntley Road Worthington, Ohio 43085 (US)
Inventors: SURYAVANSHI, Abhijit; (US).
GLEDHILL, Andrew; (US).
LONG, Christopher; (US).
KONOVALOV, Valeriy; (US).
ZHANG, Kai; (US)
Agent: DEMAGGIO, Keith; (US)
Priority Data:
62/158,599 08.05.2015 US
Title (EN) CUTTING ELEMENTS HAVING ACCELERATED LEACHING RATES AND METHODS OF MAKING THE SAME
(FR) ÉLÉMENTS DE COUPE PRÉSENTANT DES TAUX DE LIXIVIATION ACCÉLÉRÉS ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION
Abstract: front page image
(EN)Cutting elements having accelerated leaching rates and methods of making the same are disclosed herein. In one embodiment, a method of forming a cutting element includes assembling a reaction cell having diamond particles, a non-catalyst material, a catalyst material, and a substrate within a refractory metal container, where the non-catalyst material is generally immiscible in the catalyst material at a sintering temperature and pressure. The method also includes subjecting the reaction cell and its contents to a high pressure high temperature sintering process to form a polycrystalline diamond body that is attached to the substrate. The method further includes contacting at least a portion of the polycrystalline diamond body with a leaching agent to remove catalyst material and non-catalyst material from the diamond body, where a leaching rate of the catalyst material and the non-catalyst material exceeds a conventional leaching rate profile by at least about 30%.
(FR)La présente invention concerne des éléments de coupe présentant des taux de lixiviation accélérés et leurs procédés de fabrication. Dans un mode de réalisation, un procédé de formation d'un élément de coupe consiste à assembler une cellule de réaction comportant des particules de diamant, un matériau non-catalyseur, un matériau catalyseur, et un substrat à l'intérieur d'un récipient métallique réfractaire, le matériau non-catalyseur étant généralement non miscible au matériau catalyseur à une température et une pression de frittage. Le procédé consiste également à soumettre la cellule de réaction et son contenu à un procédé de frittage à haute température et à haute pression pour former un corps de diamant polycristallin qui est fixé au substrat. Le procédé consiste en outre à mettre en contact au moins une partie du corps de diamant polycristallin avec un agent de lixiviation pour éliminer le matériau catalyseur et le matériau non-catalyseur du corps de diamant, un taux de lixiviation du matériau catalyseur et du matériau non-catalyseur dépassant un taux de lixiviation d'au moins environ 30 %.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)