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1. (WO2016182820) SYSTEMS AND METHODS FOR OBLIQUE INCIDENCE SCANNING WITH 2D ARRAY OF SPOTS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/182820    International Application No.:    PCT/US2016/030838
Publication Date: 17.11.2016 International Filing Date: 04.05.2016
IPC:
H01L 21/66 (2006.01)
Applicants: KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US)
Inventors: SULLIVAN, Jamie; (US).
CHURIN, Yevgeniy; (US)
Agent: MCANDREWS, Kevin; (US)
Priority Data:
62/159,173 08.05.2015 US
14/982,747 29.12.2015 US
Title (EN) SYSTEMS AND METHODS FOR OBLIQUE INCIDENCE SCANNING WITH 2D ARRAY OF SPOTS
(FR) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS POUR BALAYAGE À INCIDENCE OBLIQUE AVEC RÉSEAU 2D DE POINTS
Abstract: front page image
(EN)A system to generate multiple beam lines in an oblique angle multi-beam spot scanning wafer inspection system includes a beam scanning device configured to scan a beam of illumination, an objective lens oriented at an oblique angle relative to the surface of a sample and with an optical axis perpendicular to a first scanning direction on the sample, and one or more optical elements positioned between the objective lens and the beam scanning device. The one or more optical elements split the beam into two or more offset beams such that the two or more offset beams are separated in a least a second direction perpendicular to the first direction. The one or more optical elements further modify the phase characteristics of the two or more offset beams such that the two or more offset beams are simultaneously in focus on the sample during a scan.
(FR)La présent invention porte sur un système pour générer de multiples lignes de faisceau dans un système d'inspection de tranches par balayage de point multi-faisceau à angle oblique qui comprend un dispositif de balayage de faisceau configuré pour balayer un faisceau d'éclairage, un objectif orienté à un angle oblique par rapport à la surface d'un échantillon et ayant un axe optique perpendiculaire à une première direction de balayage sur l'échantillon, et un ou plusieurs éléments positionnés entre l'objectif et le dispositif de balayage de faisceau. Ledit élément optique divise le faisceau en au moins deux faisceaux décalés de telle sorte que lesdits deux faisceaux décalés sont séparés dans un moins une seconde direction perpendiculaire à la première direction. Ledit élément optique modifie en outre les caractéristiques de phase des au moins deux faisceaux décalés de telle sorte que lesdits deux faisceaux décalés sont simultanément au foyer sur l'échantillon pendant un balayage.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)