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1. (WO2016181791) IMAGE DEVELOPING DEVICE, IMAGE DEVELOPING METHOD, PATTERN FORMING DEVICE, AND PATTERN FORMING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/181791    International Application No.:    PCT/JP2016/062742
Publication Date: 17.11.2016 International Filing Date: 22.04.2016
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/30 (2006.01), G06F 3/041 (2006.01), G06F 3/044 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventors: KOBAYASHI Hiroyuki; (JP)
Agent: WATANABE Mochitoshi; (JP)
Priority Data:
2015-096258 11.05.2015 JP
Title (EN) IMAGE DEVELOPING DEVICE, IMAGE DEVELOPING METHOD, PATTERN FORMING DEVICE, AND PATTERN FORMING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE DÉVELOPPEMENT D'IMAGE, PROCÉDÉ DE DÉVELOPPEMENT D'IMAGE, DISPOSITIF DE FORMATION DE MOTIFS, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS
(JA) 現像装置、現像方法、パターン形成装置およびパターン形成方法
Abstract: front page image
(EN)This image developing device (14) is configured to develop a substrate (20) on which photosensitive layers (34), formed on both surfaces of a support body (30), are exposed in a predetermined pattern. The image developing device (14) has jetting parts (40) that intermittently jet a developer as fine particles toward the substrate (20) that is vertically held and onto the photosensitive layers (34) on the obverse and reverse surfaces of the substrate (20). This image developing method for developing the substrate (20) on which the photosensitive layers (34), formed on both surfaces of the support body (30), are exposed in a predetermined pattern comprises a developing step for intermittently jetting the developer as fine particles toward the substrate (20) that is vertically held and onto the photosensitive layers (34) on the obverse and reverse surfaces of the substrate (20).
(FR)Le dispositif de développement d'image (14) selon la présente invention est conçu pour développer un substrat (20) sur lequel des couches photosensibles (34), formées sur les deux surfaces d'un corps de support (30), sont exposées en un motif prédéterminé. Le dispositif de développement d'image (14) a des parties d'éjection de jet (40) qui, éjectent de façon intermittente un agent de développement sous forme de fines particules vers le substrat (20) qui est maintenu à la verticale et sur les couches photosensibles (34) sur les surfaces recto et verso du substrat (20). Le procédé de développement d'image selon la présente invention pour développement du substrat (20) sur lequel les couches photosensibles (34), formées sur les deux surfaces du corps de support (30), sont exposées en un motif prédéterminé comprend une étape de développement consistant à éjecter de façon intermittente l'agent de développement sous forme de fines particules vers le substrat (20) qui est maintenu à la verticale et sur les couches photosensibles (34) sur les surfaces recto et verso du substrat (20).
(JA)現像装置(14)は支持体(30)の両面に形成された感光性層(34)が予め定められたパターン状に露光された基板(20)を現像するものである。現像装置(14)は、垂直に保持された基板(20)に対して、基板(20)の表面の感光性層(34)および裏面の感光性層(34)に、現像液を微小な粒状にして間欠的に噴射する噴射部(40)を有する。支持体(30)の両面に形成された感光性層(34)が予め定められたパターン状に露光された基板(20)を現像する現像方法は、基板(20)を垂直に保持した状態で、基板(20)の表面の感光性層(34)および裏面の感光性層(34)に、現像液を微小な粒状にして間欠的に噴射する現像工程を有する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)