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1. (WO2016181253) TOOL SURFACE NANO-STRUCTURE PATTERNING PROCESS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/181253    International Application No.:    PCT/IB2016/052499
Publication Date: 17.11.2016 International Filing Date: 03.05.2016
IPC:
G03F 7/00 (2006.01)
Applicants: MORPHOTONIX SARL [CH/CH]; Chemin de la Raye 13 1024 Ecublens (CH)
Inventors: AUZELYTE, Vaida; (CH).
SAVU, Veronica; (CH)
Agent: REUTELER & CIE SA; Chemin de la Vuarpillière 29 CH-1260 Nyon (CH)
Priority Data:
15167753.1 14.05.2015 EP
Title (EN) TOOL SURFACE NANO-STRUCTURE PATTERNING PROCESS
(FR) PROCESSUS DE FORMATION DE MOTIFS DE NANO-STRUCTURE DE SURFACE D'OUTIL
Abstract: front page image
(EN)Method of patterning a surface of an object or a tool with nano and/or micro structure elements having dimensions in a range of 1 nanometer to 1 millimeter, comprising the steps of producing a flexible mask with said nano or micro structure pattern formed on a surface of said flexible mask, chemically activating said surface of the flexible mask and/or said surface to be patterned of the tool, placing said patterned surface of the flexible mask in contact with said surface to be patterned of the object or tool, promoting a covalent bonding reaction between said patterned surface of the flexible mask in contact with said surface to be patterned, removing the flexible mask from the tool whereby a layer of said flexible mask remains bonded to said surface to be patterned of the tool, etching said surface to be patterned of the tool whereby the bonded layer of flexible mask material resists etching. An anti-activation mask defining a periphery of the surface area to be patterned, or peripheries of the surface area to be patterned if there are a plurality of separate portions of surface area to be patterned, is deposited on the flexible mask prior to placing the patterned surface of the flexible mask on the surface to be patterned. The anti-activation mask prevents bonding of the flexible mask to the surface of the object or tool in areas where the anti-activation mask is present.
(FR)L'invention concerne un procédé de formation de motifs sur une surface d'un objet ou d'un outil avec des éléments de nano-structure et/ou micro-structure ayant des dimensions dans une plage de 1 nanomètre à 1 millimètre, comprenant les étapes pour produire un masque souple avec ledit motif de nano-structure ou micro-structure formé sur une surface dudit masque souple, activer chimiquement ladite surface du masque souple et/ou ladite surface de formation de motifs de l'outil, placer la surface à formation de motifs du masque souple en contact avec ladite surface de formation de motifs de l'objet ou outil, favoriser une réaction de collage covalente entre ladite surface à formation de motifs du masque souple en contact avec ladite surface de formation de motifs, retirer le masque souple de l'outil, une couche dudit masque souple restant collée sur ladite surface de formation de motifs de l'outil, graver ladite surface de formation de motifs de l'outil, la couche collée de matériau de masque souple résistant à la gravure. Un masque anti-activation définissant une périphérie de la zone de surface de formation de motifs, ou des périphéries de la zone de surface de formation de motifs s'il existe une pluralité de parties séparées de zone de surface de formation de motifs, est déposé sur le masque souple avant de placer la surface à formation de motifs du masque souple sur la surface de formation de motifs. Le masque anti-activation empêche le collage du masque souple sur la surface de l'objet ou outil dans des zones où le masque anti-activation est présent.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)