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1. (WO2016180542) ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/180542    International Application No.:    PCT/EP2016/000795
Publication Date: 17.11.2016 International Filing Date: 13.05.2016
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Straße 2 73447 Oberkochen (DE)
Inventors: DEGÜNTHER, Markus; (DE)
Agent: SCHWANHÄUSSER, Gernot; Ostertag & Partner Epplestr. 14 70597 Stuttgart (DE)
Priority Data:
10 2015 208 950.9 13.05.2015 DE
Title (EN) ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE D'UN APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abstract: front page image
(EN)An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a first and a second optical raster plate (54a). An irradiance distribution of projection light on the first and second optical raster plate determines an angular light distribution of the projection light exclusively at a first portion (60a) and a second portion, respectively, of an illuminated field. The second portion is distinct from and arranged adjacent to the first portion. This makes it possible to produce different illumination settings in different adjacent portions (60a, 60b) on the mask (14). First and second Fourier optics (58a, 58b) establish a Fourier relationship between the first and second optical raster plates one the one hand and the first and second portion on the other hand. The first and second Fourier optics (58a) have a first and second focal length, respectively, that are variable in response to a focal length change command signal from a control unit (45).
(FR)L'invention concerne un système d'éclairage d'un appareil d'exposition par projection microlithographique, qui comprend des première et seconde plaques de trame optique (54a). Une distribution de rayonnement de lumière de projection sur les première et seconde plaques de trame optique détermine une distribution de lumière angulaire de la lumière de projection exclusivement au niveau d'une première partie (60a) et d'une seconde partie, respectivement, d'un champ éclairé. La seconde partie est distincte de la première partie et disposée de façon adjacente à cette dernière. Il est ainsi possible de produire différents réglages d'éclairage dans différentes parties adjacentes (60a, 60b) sur le masque (14). Des premier et second éléments optiques de Fourier (58a, 58b) établissent une relation de Fourier entre les première et seconde plaques de trame optique, d'une part, et les première et seconde parties, d'autre part. Les premier et second éléments optiques de Fourier (58a) ont des première et seconde longueurs focales, respectivement, qui sont variables en réponse à un signal de commande de changement de longueur focale provenant d'une unité de commande (45).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)