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1. (WO2016177953) FACILITY FOR TREATING CONTAINERS BY MICROWAVE PLASMA, COMPRISING A SOLID-STATE GENERATOR AND ADJUSTMENT METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/177953    International Application No.:    PCT/FR2016/050956
Publication Date: 10.11.2016 International Filing Date: 22.04.2016
IPC:
C23C 16/26 (2006.01), C23C 16/04 (2006.01), C23C 16/52 (2006.01), C23C 16/511 (2006.01)
Applicants: SIDEL PARTICIPATIONS [FR/FR]; Avenue de la Patrouille de France 76930 Octeville-Sur-Mer (FR)
Inventors: DUCLOS, Yves-Alban; (FR).
TURLOTTE, Denis; (FR)
Agent: SILORET, Patrick; (FR)
Priority Data:
1553966 04.05.2015 FR
Title (EN) FACILITY FOR TREATING CONTAINERS BY MICROWAVE PLASMA, COMPRISING A SOLID-STATE GENERATOR AND ADJUSTMENT METHOD
(FR) INSTALLATION POUR LE TRAITEMENT DE RÉCIPIENTS PAR PLASMA MICRO-ONDES, COMPRENANT UN GÉNÉRATEUR A ÉTAT SOLIDE ET PROCÉDÉ DE RÉGLAGE
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to a facility (1) for plasma-assisted chemical vapour deposition, on an inner wall of a polymer container (2), of a thin barrier layer, and a method for adjusting said facility. The facility (1) comprises: a conductive recess (4); an enclosure (5) mounted in the recess (4); a device (9) for injecting a precursor gas into the enclosure (5); a microwave generator (15); and a device (24) for diffusing microwaves in the enclosure (5), connected to the microwave generator (15), in order to energise and maintain a plasma in the precursor gas; characterised in that the microwave generator (15) is a solid-state generator, provided with a variable frequency drive (22) for the microwave emission frequency; in that it comprises a sensor (13) arranged to measure a physical quantity characterising the energy intensity of the plasma produced in the container (2); and in that it comprises a control unit (14) connected to the sensor (13) and to the microwave generator (15), said control unit (14) being programmed to adjust the microwave emission frequency, via the variable frequency drive (22), in accordance with the value of the physical quantity characterising the energy intensity measured by the sensor (13).
(FR)L'invention concerne une installation (1) pour le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma, sur une paroi interne d'un récipient (2) en polymère, d'une couche barrière mince, et un procédé de réglage de ladite installation. L'installation (1) comprend; une cavité (4) conductrice; une enceinte (5) montée dans la cavité (4); un dispositif (9) d'injection d'un gaz précurseur dans l'enceinte (5); un générateur (15) de micro-ondes; un dispositif (24) de diffusion des micro-ondes dans l'enceinte (5), relié au générateur (15) de micro-ondes, pour exciter et entretenir un plasma dans le gaz précurseur; caractérisée : en ce que le générateur (15) de micro-ondes est un générateur à état solide, équipé d'un variateur (22) de fréquence d'émission des micro-ondes; en ce qu'elle comprend un capteur (13) disposé de façon à mesurer une grandeur physique caractérisant l'intensité énergétique du plasma produit dans le récipient (2); en ce qu'elle comprend une unité (14) de contrôle reliée au capteur (13) et au générateur (15) de micro-ondes, cette unité (14) de contrôle étant programmée pour ajuster la fréquence d'émission des micro-ondes, par l'intermédiaire du variateur (22) de fréquence, en fonction la valeur de la grandeur physique caractérisant l'intensité énergétique mesurée par le capteur (13).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)