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1. (WO2016177766) PLASMA IMPEDANCE MATCHING UNIT, SYSTEM FOR SUPPLYING RF POWER TO A PLASMA LOAD, AND METHOD OF SUPPLYING RF POWER TO A PLASMA LOAD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/177766    International Application No.:    PCT/EP2016/059970
Publication Date: 10.11.2016 International Filing Date: 04.05.2016
IPC:
H01J 37/32 (2006.01), H03H 7/38 (2006.01)
Applicants: TRUMPF HUETTINGER SP. Z O. O. [PL/PL]; Ul-Marecka St. 47 05-220 Zielonka (PL)
Inventors: GLAZEK, Wojciech; (PL).
BUGYI, Rafal; (PL)
Agent: TRUMPF PATENTABTEILUNG; Trumpf GmbH + Co KG Johann-Maus-Strasse 2 Baden-Württemberg 71254 Ditzingen (DE)
Priority Data:
15461529.8 05.05.2015 EP
Title (EN) PLASMA IMPEDANCE MATCHING UNIT, SYSTEM FOR SUPPLYING RF POWER TO A PLASMA LOAD, AND METHOD OF SUPPLYING RF POWER TO A PLASMA LOAD
(FR) UNITÉ D’APPARIEMENT D’IMPÉDANCE DE PLASMA, SYSTÈME D’ALIMENTATION EN PUISSANCE À RF D’UNE CHARGE DE PLASMA, ET PROCÉDÉ D’ALIMENTATION EN PUISSANCE À RF D’UNE CHARGE DE PLASMA
Abstract: front page image
(EN)A plasma impedance matching unit (13) for a plasma power supply system (10, 100) comprises a. a first power connector (40) for coupling the matching unit (13) to a power source (11), b. a second power connector (41) for coupling the matching unit (13) to a plasma load (20), c. a data link interface (45) for directly coupling the impedance matching unit (13) to another plasma impedance matching unit (14) of the plasma power supply system (10, 100) via a data link (48), d. a controller (42) configured to control the matching unit (13) in order to match the impedance from the first power connector (40) to the impedance at the second power connector (41), wherein e. the controller (42) is configured to operate as a master for at least one other impedance matching unit (14) and/or at least one RF power source (11, 12) of the plasma power supply system (10, 100), wherein the controller (42) communicates via the data link interface (45) with the other impedance matching unit(s) (14) and/or RF power source(s) (11, 12) of the plasma power supply system (10, 100).
(FR)L’invention concerne une unité d’appariement (13) d’impédance de plasma pour un système d’alimentation électrique à plasma (10, 100) qui comprend a. un premier connecteur de puissance (40) pour le couplage de l’unité d’appariement (13) à une source d’énergie (11), b. un deuxième connecteur de puissance (41) pour le couplage de l’unité d’appariement (13) à une charge de plasma (20), c. une interface (45) de liaison de données pour le couplage direct de l’unité d’appariement (13) d’impédance à une autre unité d’appariement (14) d’impédance de plasma du système d’alimentation électrique à plasma (10, 100) par une liaison de données (48), d. un contrôleur (42) configuré pour contrôler l’unité d’appariement (13) afin d’apparier l’impédance provenant du premier connecteur de puissance (40) à l’impédance aux bornes du deuxième connecteur de puissance (41), e. le contrôleur (42) étant configuré pour fonctionner comme un maître pour au moins une unité d’appariement (14) d’impédance et/ou au moins une source d’énergie à RF (11, 12) du système d’alimentation électrique à plasma (10, 100), le contrôleur (42) communiquant par l’interface (45) de liaison de données avec l’autre unité ou les autres unités d’appariement (14) d’impédance et/ou la ou les autres sources de puissance à RF (11, 12) du système d’alimentation électrique à plasma (10, 100).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)