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1. (WO2016177519) RADIATION SOURCE, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/177519    International Application No.:    PCT/EP2016/057341
Publication Date: 10.11.2016 International Filing Date: 04.04.2016
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), H05G 2/00 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven (NL)
Inventors: FRANKEN, Johannes, Christiaan, Leonardus; (NL)
Agent: FILIP, Diana; (NL)
Priority Data:
15166158.4 04.05.2015 EP
Title (EN) RADIATION SOURCE, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SOURCE DE RAYONNEMENT, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIFS
Abstract: front page image
(EN)A radiation source for a lithographic apparatus, in particular a laser-produced plasma source wherein a buffer liquid droplet is provided in a source chamber containing the plasma source. The buffer liquid droplet being evaporated explosively to form a buffer gas within the source chamber. Wherein the buffer gas may deflect physical debris in the source chamber to reduce or prevent physical debris from passing out of an opening in the source chamber into other parts of the lithographic apparatus.
(FR)L'invention concerne une source de rayonnement pour appareil lithographique, en particulier une source de plasma produite par laser dans lequel une gouttelette de liquide tampon est disposée dans une chambre source contenant la source de plasma. La gouttelette de liquide tampon étant évaporée de manière explosive pour former un gaz tampon à l'intérieur de la chambre de source. Le gaz tampon peut dévier des débris physiques dans la chambre de source pour réduire ou empêcher des débris physiques de sortir par une ouverture ménagée dans la chambre de source et de pénétrer dans d'autres parties de l'appareil lithographique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)