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1. (WO2016175879) MICROPOROUS/MESOPOROUS CARBON
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/175879    International Application No.:    PCT/US2015/045830
Publication Date: 03.11.2016 International Filing Date: 19.08.2015
IPC:
C01B 31/04 (2006.01), B01J 6/00 (2006.01)
Applicants: THE BOARD OF TRUSTEES OF THE LELAND STANFORD JUNIOR UNIVERSITY [US/US]; 3000 El Camino Real, Building Five, Third Floor Palo Alto, CA 94306 (US)
Inventors: BAO, Zhenan; (US).
TO, John; (US).
HE, Jiajun; (US).
WILCOX, Jennifer; (US).
MEI, Jianguo; (US)
Agent: JACOBS, Ron; (US)
Priority Data:
14/701,322 30.04.2015 US
Title (EN) MICROPOROUS/MESOPOROUS CARBON
(FR) CARBONE MÉSOPOREUX/MICROPOREUX
Abstract: front page image
(EN)Hierarchically porous graphitic (HPG) carbon is provided via improved methods. The first approach is based on forming a 3-D polymer network from a first precursor and a second precursor and carbonizing it. The carbon in the resulting carbon structure comes from the first precursor, while the second precursor volatizes to form the pores. However, the second precursor is temperature resistant, such that carbonization of the first precursor is underway when the second precursor volatizes. The second approach is based on forming a structured polymer from first and second precursors. More specifically, the second precursor forms a second polymer having a micelle structure and the first precursor forms a first polymer that coats the micelle structure of the second polymer. The structured polymer is carbonized. Here also the carbon in the resulting carbon structure comes from the first precursor, while the second precursor volatizes to form the pores.
(FR)Cette invention concerne l'obtention de carbone graphitique poreux de manière hiérarchique (HPG) par des procédés améliorés. La première approche consiste à former un réseau polymère tridimensionnel à partir d'un premier précurseur et d'un second précurseur, et à le carboniser. Le carbone dans la structure de carbone résultante provient du premier précurseur, tandis que le second précurseur s'évapore pour former les pores. Le second précurseur est toutefois résistant à la température, de sorte que la carbonisation du premier précurseur est en cours lorsque le second précurseur s'évapore. La seconde approche consiste à former un polymère structuré à partir des premier et second précurseurs. Plus spécifiquement, le second précurseur forme un second polymère ayant une structure micellaire et le premier précurseur forme un premier polymère qui recouvre la structure micellaire du second polymère. Le polymère structuré est carbonisé. Là encore le carbone dans la structure de carbone résultant provient du premier précurseur, tandis que le second précurseur s'évapore pour former les pores.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)